Ossido di litio managnese e cobalto

Target di sputtering in ossido di litio, manganese e cobalto Panoramica

I target di sputtering
in ossido di litio, manganese e cobalto
sono materiali catodici per batterie agli ioni di litio ad alta purezza utilizzati per la preparazione di film sottili e per esperimenti di ricerca scientifica. Consentono una deposizione di film sottili altamente uniforme e sono ampiamente utilizzati nella ricerca sulle batterie di potenza, nelle batterie allo stato solido e nei rivestimenti funzionali.

Siamo in grado di fornire target di sputtering in ossido di litio, manganese e cobalto ad alta densità e altamente uniformi; le dimensioni e gli spessori possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente. Contattateci
per richiedere campioni e soluzioni personalizzate!

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, basse impurità
Eccellente densità e resistenza meccanica
Struttura cristallina stabile, deposizione uniforme di film sottili
Dimensioni, forma e spessore personalizzabili
Supporta applicazioni scientifiche e industriali
Consegna rapida, assistenza tecnica completa

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di litio, manganese e cobalto

Ricerca sulle batterie di potenza:
utilizzati per preparare materiali catodici a film sottile LMC per lo sviluppo di batterie ad alte prestazioni.
Batterie allo stato solido:
supportano la deposizione di film sottili per batterie allo stato solido, garantendo l’uniformità dell’interfaccia e la conduttività ionica.
Rivestimenti funzionali:
può essere utilizzato per la preparazione di film sottili ad alta precisione in optoelettronica, microelettronica e altri campi.

Domande frequenti

D1: Quali processi di deposizione supporta il bersaglio di sputtering di ossido di litio manganese cobalto?
A1: Adatto per processi PVD convenzionali come sputtering magnetron e evaporazione con fascio di elettroni.

D2: È possibile personalizzare le dimensioni e lo spessore del bersaglio?
A2: Sì, sono disponibili varie specifiche in base ai requisiti delle apparecchiature del cliente.

D3: Qual è l’uniformità del film sputterizzato?
A3: La densità ottimizzata del target e la struttura cristallina consentono una deposizione del film altamente uniforme.

D4: Quali sono i requisiti di purezza e controllo delle impurità per il target?
A4: Purezza fino al 99,9%, con un controllo rigoroso delle impurità metalliche e del contenuto di ossigeno.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Disponiamo di attrezzature professionali per la produzione di target e di un team tecnico, e siamo in grado di fornire target di sputtering LMC personalizzati e di alta qualità per garantire risultati di deposizione di film sottili stabili ed efficienti nella ricerca scientifica e nelle applicazioni industriali.