I target di sputtering
in ossido di litio, lantanio e titanio
sono target ceramici progettati per la deposizione di strati sottili di elettrolita solido LLTO. Grazie alla loro elevata conduttività degli ioni di litio, alla stabilità termica e alla compatibilità con il litio metallico, i target LLTO sono ampiamente utilizzati nella ricerca e nello sviluppo di microbatterie al litio allo stato solido, dispositivi di accumulo di energia a film sottile e materiali elettrochimici avanzati.
I target di sputtering in ossido di litio, lantanio e titanio sono prodotti con stechiometria controllata e struttura ceramica densa per garantire velocità di sputtering costanti, spessore uniforme del film e conducibilità ionica riproducibile nei film sottili depositati. Sono adatti per sistemi di sputtering RF e magnetron.
Elevata conducibilità degli ioni di litio nei film sottili depositati
Struttura ceramica densa per uno sputtering stabile e uniforme
Stechiometria controllata che garantisce una composizione riproducibile del film
Compatibile con i sistemi di sputtering RF e magnetron
Adatto alla ricerca sulle microbatterie e sulle batterie a stato solido a film sottile
Buona adesione e compatibilità con il substrato
Elettroliti solidi a film sottile:
i bersagli di sputtering
in ossido di litio, lantanio e titanio
sono utilizzati per depositare strati di elettroliti solidi in microbatterie al litio completamente allo stato solido.
Ricerca sull’accumulo di energia e sulle batterie:
i film sottili prodotti dai target LLTO vengono applicati negli studi sulla conduttività ionica, la stabilità elettrochimica e l’ingegneria delle interfacce.
Ricerca sui materiali elettrochimici:
i target
di ossido di litio, lantanio e titanio
sono adatti alla ricerca avanzata sugli elettroliti allo stato solido, gli elettrodi compositi e i materiali funzionali a film sottile.
Rivestimenti funzionali per microbatterie:
utilizzati nello sviluppo di rivestimenti funzionali a film sottile per applicazioni di accumulo di energia e microelettronica.
D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target LLTO?
R1: I target LLTO sono comunemente utilizzati nei sistemi di sputtering RF e magnetron grazie alla loro natura ceramica.
D2: I film sottili LLTO possono mantenere il contenuto di litio durante la polverizzazione?
R2: Una corretta progettazione del target e parametri di polverizzazione ottimizzati riducono al minimo la perdita di litio e garantiscono una composizione uniforme del film sottile.
D3: I target LLTO sono compatibili con le piastre di supporto?
R3: Sì, è possibile fornire opzioni di incollaggio in base alle dimensioni del target e ai requisiti del sistema di polverizzazione.
Q4: Quali substrati sono compatibili con i film sottili LLTO?
A4: I substrati comuni includono wafer di silicio, vetro, zaffiro e altri substrati utilizzati nella ricerca sulle batterie a stato solido a film sottile.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
I target di sputtering in ossido di litio-lantanio-titanio sono spesso ricercati per elettroliti solidi a film sottile, ricerca sulle microbatterie e applicazioni di batterie allo stato solido. La loro struttura ceramica densa, la stechiometria controllata e la compatibilità con i sistemi di sputtering RF/magnetron supportano una forte visibilità tecnica e la rilevanza della ricerca su Google.
Formula molecolare: LiLaTiO₃
Peso molecolare: 219,73 g/mol
Aspetto: Materiale solido denso target di colore chiaro o bianco-grigiastro
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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