Ossido di litio e manganese

Panoramica sui target di sputtering in ossido di litio e manganese

I target di sputtering
in ossido di litio e manganese
sono target ceramici progettati per la deposizione di strati catodici LMO a film sottile. Grazie alla loro elevata capacità di velocità, stabilità termica e robustezza strutturale, i target LMO sono ampiamente utilizzati nella ricerca e nello sviluppo di batterie agli ioni di litio su microscala, dispositivi di accumulo di energia a film sottile e materiali elettrochimici avanzati.

I target di sputtering in ossido di litio e manganese sono prodotti con stechiometria controllata, struttura ceramica densa ed elevata purezza di fase per garantire velocità di sputtering uniformi, composizione riproducibile del film sottile e prestazioni elettrochimiche stabili. Sono compatibili con i sistemi di sputtering RF e magnetron utilizzati nella ricerca sulle batterie
allo stato solido a film sottile.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura LiMn₂O₄ di tipo spinello con elevata stabilità strutturale
Struttura ceramica densa per uno sputtering uniforme e stabile
Stechiometria controllata che garantisce proprietà riproducibili del film sottile
Compatibile con i sistemi di sputtering RF e magnetron
Adatto alla ricerca sulle microbatterie e sui film sottili agli ioni di litio
Buona adesione e compatibilità con il substrato

Applicazioni del bersaglio di sputtering in ossido di litio e manganese

Catodi a film sottile per microbatterie:
i bersagli LMO sono utilizzati per depositare strati catodici in batterie agli ioni di litio su microscala.
Ricerca e sviluppo nell’ambito dello stoccaggio di energia:
i film sottili ottenuti dai target LMO vengono utilizzati negli studi sulle prestazioni elettrochimiche, sulla stabilità dei cicli e sull’ingegneria delle interfacce.
Ricerca sui materiali elettrochimici
: i target LMO supportano la ricerca avanzata sui catodi allo stato solido, sugli elettrodi compositi e sui materiali funzionali a film sottile.
Rivestimenti funzionali per dispositivi energetici:
utilizzati nello sviluppo di rivestimenti catodici a film sottile per microbatterie e altre applicazioni di accumulo di energia.

Domande frequenti

D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di ossido di litio e manganese?
R1: I target LMO sono comunemente utilizzati nei sistemi di sputtering RF e magnetron grazie alla loro natura ceramica.

D2: I film sottili di LMO possono mantenere il contenuto di litio e manganese durante la sputtering?
R2: Una progettazione adeguata del target e parametri di sputtering ottimizzati garantiscono una perdita minima e una composizione del film sottile uniforme.

D3: I target di ossido di litio e manganese sono compatibili con le piastre di supporto?
R3: Sì, è possibile fornire opzioni di incollaggio a seconda delle dimensioni del target e dei requisiti del sistema di sputtering.

Q4: Quali substrati sono compatibili con i film sottili LMO?
A4: I substrati comuni includono wafer di silicio, vetro, zaffiro e altri materiali utilizzati nella ricerca sulle batterie a film sottile.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Vantaggi del materiale

I target di sputtering in ossido di litio e manganese sono spesso ricercati per catodi a film sottile, ricerca sulle microbatterie e applicazioni di accumulo di energia. La loro struttura ceramica densa, la stechiometria controllata e la compatibilità con i sistemi di sputtering RF/magnetron supportano una forte visibilità tecnica e la rilevanza della ricerca su Google.