Ossido di litio

Target di sputtering all’ossido di litio Panoramica

I target di sputtering
all’ossido di litio
sono utilizzati nei processi avanzati di deposizione di film sottili per la produzione di rivestimenti contenenti litio in batterie allo stato solido, film conduttivi trasparenti e semiconduttori di ossido. Con un’eccellente reattività e un elevato contenuto di litio, i target Li₂O fungono da fonte di litio nei sistemi di sputtering magnetronico e PLD (deposizione laser pulsata).

I nostri target di sputtering all’ossido di litio sono realizzati con polvere ad alta purezza con purezza tipica ≥99,9%, sinterizzata o pressata a caldo per ottenere un’elevata densità e uniformità. Offriamo anche un supporto commerciale completo: non esitate a contattarci
per qualsiasi domanda.

Caratteristiche principali del prodotto

Purezza: ≥99,9% (3N)
Elevato contenuto di litio per un efficiente drogaggio o formazione di composti
Dimensioni personalizzate e servizi di incollaggio disponibili
Microstruttura densa e uniforme per velocità di sputtering stabili

Opzioni di specifica dei target di sputtering di ossido di litio

Gradi di purezza: 3N (99,9%) standard; 4N e superiori disponibili su richiesta
Forme dei target: circolari, rettangolari o geometrie personalizzate
Dimensioni: diametri tipici 1″-8″, spessore 3-10 mm; personalizzabile
Incollaggio
: incollaggio opzionale su piastre di supporto (Cu, Mo) con indio o resina epossidica

Applicazioni dei target di sputtering di ossido di litio

Batterie
al litio allo stato solido: deposizione di film sottili di elettroliti solidi ricchi di litio (ad es. LLZO, tipo LISICON, LiPON)
Dispositivi elettrocromici: per film di ossido intercalato al litio in applicazioni per finestre intelligenti
Ossidi conduttivi trasparenti: agente di drogaggio per materiali come ZnO e ITO per modificare le proprietà elettroniche
Film sottili funzionali: impiegati nella formazione di strati di ossido contenenti litio per dispositivi elettronici avanzati

Domande frequenti

D1: Per quali tipi di film sottili vengono utilizzati principalmente i target di sputtering di ossido di litio?
A1: Questi target di sputtering sono utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili funzionali di ossido di litio, comunemente utilizzati in campi di ricerca quali materiali funzionali a base di litio, elettroliti solidi e film sottili di ossido correlati.

D2: Quali sono le caratteristiche dei materiali di ossido di litio durante la deposizione di film sottili?
A2: Questo materiale presenta le caratteristiche tipiche dell’ossido, che aiutano a formare film sottili funzionali con composizione uniforme e struttura stabile durante la deposizione mediante sputtering.

D3: Quali processi di sputtering sono adatti per questo target di sputtering di ossido di litio?
A3: I target di sputtering di ossido di litio sono generalmente adatti per processi PVD come lo sputtering a radiofrequenza, soddisfacendo le esigenze di preparazione di film sottili nelle fasi di ricerca e su scala pilota.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante l’uso e la conservazione dei target di sputtering di ossido di litio?
A4: Si raccomanda di installare e conservare il bersaglio in un ambiente asciutto e sigillato per ridurre al minimo il contatto con l’aria e l’umidità, garantendo la stabilità del processo di sputtering e la qualità del film sottile.

Rapporti

Tutti i bersagli di sputtering Li₂O vengono forniti con un certificato di analisi (COA) e una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS). Su richiesta possono essere forniti rapporti XRD, SEM ed EDX.