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Ossido di lantanio e zirconio

Chemical Name:
Ossido di lantanio e zirconio
Formula:
La2Zr2O7
Product No.:
57400800
CAS No.:
12031-48-0
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
57400800ST001 La2Zr2O7 99.99% (REO) Ø 96 mm x 6 mm Inquire
Product ID
57400800ST001
Formula
La2Zr2O7
Purity
99.99% (REO)
Dimension
Ø 96 mm x 6 mm

Bersaglio sputtering in zirconato di lantanio Panoramica

Lo zirconato di lantanio è un materiale ad alte prestazioni progettato per il processo di deposizione di film sottili. Presenta eccellenti caratteristiche di stabilità termica, resistenza alla corrosione chimica e alta densità. È ampiamente utilizzato nella deposizione di film sottili in ambienti ad alta temperatura e sotto vuoto. Il target garantisce l’uniformità e l’elevata adesione dei film sottili controllando con precisione la composizione e la struttura. È un materiale indispensabile in molti campi di applicazione di alto livello.

Forniamo target di sputtering in ossido di lantanio e zirconio di varie forme e dimensioni, tra cui rotondi, rettangolari, ecc. e possono essere personalizzati in base alle vostre esigenze. Forniamo inoltre un’assistenza post-vendita completa per garantire che i clienti non abbiano problemi durante l’uso.

Caratteristiche del prodotto

Bersaglio sputtering di lantanio zirconato di elevata purezza: 99,99%
Alta densità per garantire la deposizione uniforme di film sottili
Dimensioni e forma personalizzabili
È disponibile l’incollaggio del target

Applicazioni del target sputtering di zirconato di lantanio

Semiconduttori: Grazie all’eccellente conduttività e alla compatibilità di processo, i target sputtering di La₂Zr₂O₇ sono adatti per strati di interconnessione e strati dielettrici a film sottile.
Rivestimento ottico: Come materiale di rivestimento ottico, fornisce elevata riflettività e stabilità e viene utilizzato in componenti come lenti e obiettivi ottici.
Fotovoltaico: utilizzato come materiale a film sottile nelle celle solari per migliorare l’efficienza di conversione fotoelettrica.
Applicazione nel vuoto ad alta temperatura: I target di sputtering La2Zr2O7 possono mantenere la stabilità in ambienti sotto vuoto ad alta temperatura e sono ampiamente utilizzati in rivestimenti, reattori e sensori ad alta temperatura.

Rapporti

Forniamo un certificato di analisi (COA), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti per ogni lotto di prodotti. Inoltre, supportiamo anche test di terze parti per migliorare la garanzia di qualità.

Perché scegliere noi?

Siamo un produttore e fornitore affidabile di target sputtering di lantanio zirconato (La2Zr2O7) che offre target di elevata purezza e alta densità per una qualità superiore dei film sottili. Grazie all’avanzata tecnologia di fabbricazione, alla rigorosa ispezione della qualità e alle dimensioni personalizzabili, garantiamo un’eccellente uniformità e adesione del film. La nostra efficiente catena di fornitura globale garantisce disponibilità stabile, prezzi competitivi e consegne puntuali per le vostre esigenze di rivestimento e ricerca.

Formula molecolare: La₂Zr₂O₇
Peso molecolare: 425,99 g/mol
Aspetto: Bianco o grigio
Densità: Circa 6,3 g/cm³
Punto di fusione: Circa 2.400 °C
Conducibilità termica: Circa 1,5 W/m-K
Capacità termica specifica: Circa 0,30 J/g-K
Coefficiente di espansione termica: Circa 7,9 × 10-⁶ /K

Imballaggio interno: Sacchetto sigillato sottovuoto per proteggere dalla contaminazione e dall’umidità.

Imballaggio esterno: Cartone o scatola di legno, a seconda delle dimensioni e del peso.

Obiettivi fragili: Viene utilizzato uno speciale imballaggio protettivo per garantire un trasporto sicuro.

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