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Ossido di gallio e ferro (GFO)

Chemical Name:
Ossido di gallio e ferro (GFO)
Formula:
GaFeO3
Product No.:
31260800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
31260800ST001 GaFeO3 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
31260800ST001
Formula
GaFeO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm

Panoramica sui target di sputtering in ossido di ferro e gallio

L’ossido di ferro e gallio
è un materiale ceramico funzionale multiferroico che presenta proprietà di accoppiamento magnetoelettrico uniche, in cui le sue proprietà magnetiche possono essere controllate dai campi elettrici e le sue proprietà elettriche dai campi magnetici. Questo materiale target viene utilizzato principalmente nei processi di sputtering magnetronico per depositare film sottili di GaFeO₃ di alta qualità. Tali film hanno un potenziale applicativo significativo nei sensori multifunzionali di nuova generazione, nelle memorie non volatili e nei dispositivi spintronici.

Offriamo target di sputtering in ceramica di ferrite di gallio ad alta purezza e alta densità in diverse dimensioni standard con opzioni di personalizzazione. Contattateci
per soluzioni su misura.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta purezza
Rapporti stechiometrici precisi
Alta densità con bassa porosità
Eccellente uniformità microstrutturale
Servizi professionali di incollaggio
delle piastre di supporto

Applicazioni dei target di sputtering in ferrite di gallio

Sensori avanzati: sfruttamento dell’effetto di accoppiamento magnetoelettrico per la fabbricazione di sensori di campo magnetico o elettrico altamente sensibili.
Archiviazione delle informazioni: utilizzo nello sviluppo di nuovi dispositivi logici spintronici e memorie non volatili multifase.
Dispositivi ottici
e a microonde integrati: film di guida d’onda ottica depositati per comunicazioni ottiche e dispositivi a microonde sintonizzabili.
Ricerca scientifica di frontiera: funge da materiale critico per film sottili per studi fondamentali e applicati nella fisica ferroelettrica e nei dispositivi a eterogiunzione.

Domande frequenti

D1: Quali sono i vantaggi principali dei target GaFeO3?
R1: Il loro valore principale risiede nella ferroelettricità e nell’accoppiamento magnetoelettrico, che consentono la doppia regolazione e conversione dei segnali elettrici e magnetici.

D2: Quali requisiti di purezza si applicano a questo target ceramico?
R2: È essenziale un’elevata purezza. Le prestazioni del film sono sensibili alle impurità; forniamo prodotti con purezza superiore al 99,9% per garantire le prestazioni.

D3: Come deve essere conservato e mantenuto il target?
R3: Conservare in un contenitore sigillato e a prova di umidità in un ambiente asciutto. Maneggiare con cura a causa della sua natura fragile per evitare crepe dovute a urti.

D4: È necessario il pre-sputtering prima dell’uso?
R4: Sì. Il pre-sputtering pulisce la superficie del bersaglio, rimuovendo potenziali ossidi o contaminanti per garantire la composizione pura del film e una deposizione stabile.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella fornitura di target ceramici speciali ad alte prestazioni, supportati da un’assistenza tecnica
esperta per garantire il vostro successo nella ricerca e sviluppo di film funzionali all’avanguardia.

Formula molecolare: GaFeO₃
Peso molecolare: 187,88 g/mol
Aspetto: Obiettivo ceramico di colore da marrone a marrone scuro
Densità: Circa 5,2 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1.500 °C (si ammorbidisce prima della decomposizione)
Struttura cristallina: Ortorombica

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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