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Ossido di ferro manganese (ferrite Spinel)

Chemical Name:
Ossido di ferro manganese (ferrite Spinel)
Formula:
MnFe2O4
Product No.:
25260800
CAS No.:
12063-10-4
EINECS No.:
269-056-3
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
25260800ST001 MnFe2O4 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
25260800ST001
Formula
MnFe2O4
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Target di sputtering in ossido di manganese e ferro Panoramica

I target di sputtering
in ossido di manganese e ferro
sono target ceramici ad alta densità realizzati in un ossido composito (ossido di ferro e manganese spinello) utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per formare film sottili funzionali. Questi target sono ampiamente utilizzati nella produzione di film sottili magnetici, dispositivi elettronici e rivestimenti funzionali ottici
, fornendo una base stabile per la formazione di film per la preparazione di materiali avanzati.

Offriamo target di sputtering MnFe2O4 in varie purezze e dimensioni. Contattateci
per dettagli tecnici e preventivi personalizzati.

Caratteristiche principali del prodotto

Target di ossido ad alta purezza
Struttura spinello stabile
Densità eccellente
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering magnetron Dimensioni e forme
personalizzate
supportate
Buona consistenza di formazione del film
Fornitura stabile in lotti
Rigoroso sistema di controllo qualità.

Applicazioni dei target di sputtering di ossido di manganese e ferro

Deposizione di film sottili magnetici: utilizzando target MnFe2O4 per depositare film sottili magnetici in apparecchiature di sputtering magnetron, può essere utilizzato nella produzione di componenti a film sottile magnetico come memorie magnetiche e sensori magnetici.

Fabbricazione di dispositivi elettronici e semiconduttori
: questo bersaglio di sputtering è adatto per la formazione di film sottili funzionali di alta qualità su wafer di silicio, vetro o altri substrati e può essere utilizzato nella produzione di dispositivi elettronici, circuiti integrati e componenti microelettronici.

Film sottili di materiali funzionali optoelettronici: utilizzati per la formazione di film nella produzione di dispositivi optoelettronici, come strati magnetici trasparenti o materiali a film sottile con proprietà ottiche specifiche, fornendo materiali di base per display, comunicazioni ottiche, ecc.

Ricerca e sviluppo di film sottili: nei laboratori di ricerca, i target di sputtering MnFe2O4 sono utilizzati per sviluppare nuovi materiali magnetici o funzionali a film sottile e sono una fonte indispensabile per la ricerca sui film sottili nella scienza dei materiali.

Domande frequenti

D1: Che cos’è un bersaglio di sputtering di ossido di manganese e ferro?
R1: Un bersaglio di sputtering MnFe2O4 è un bersaglio ceramico composito a struttura spinello composto da ossidi di manganese e ferro, utilizzato nei processi di deposizione di film sottili come lo sputtering magnetronico.

D2: Per quali metodi di sputtering è adatto questo bersaglio?
A2: Può essere utilizzato per la polverizzazione magnetronica (compresi RF, DC, ecc.), a seconda delle attrezzature e dei requisiti di processo. La struttura densa del target aiuta a stabilizzare la formazione del film.

Q3: Perché è necessario un target di polverizzazione ad alta densità?
A3: L’alta densità riduce la porosità e le crepe, diminuendo il rischio di rottura del target durante la polverizzazione e migliorando la consistenza e la qualità del film.

Q4: In che modo la purezza della composizione del target influisce sulle prestazioni del film?
A4: I target con maggiore purezza aiutano a ridurre le impurità. Un contenuto di impurità inferiore nel film migliora le proprietà elettriche, magnetiche e ottiche, nonché la stabilità del processo.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Disponiamo di un sistema avanzato di produzione e collaudo dei target per sputtering. Dalla selezione delle materie prime e dalla preparazione delle polveri allo stampaggio, alla sinterizzazione e alla post-lavorazione, applichiamo un rigoroso controllo di processo per garantire l’elevata purezza e uniformità dei target MnFe₂O₄. Supportiamo anche specifiche personalizzate e forniamo consulenza tecnica professionale e un servizio post-vendita
completo,
offrendo ai clienti una base materiale affidabile per i processi di preparazione dei film sottili.

Formula molecolare: MnFe₂O₄
Peso molecolare: 228,81 g/mol
Aspetto: Nero
Densità: 5.0 g/cm³
Punto di fusione: 1590 °C
Struttura cristallina: Cubica (tipo Spinnel)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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