Ossido di ferro e cobalto

Target di sputtering in ossido di ferro e cobalto Panoramica

I target di sputtering
in ossido di ferro e cobalto
sono target in ossido ad alte prestazioni che combinano magnetismo stabile, resistenza all’usura e stabilità chimica, rendendoli ampiamente utilizzati nella fabbricazione di film sottili magnetici e dispositivi elettronici.

Offriamo target di sputtering in ossido di ferro e cobalto in varie dimensioni, forme cristalline e gradi di purezza, e forniamo consulenza tecnica e test sui campioni. Contattateci
per ulteriori informazioni.

Caratteristiche principali del prodotto

Eccellenti proprietà magnetiche

Resistenza all’usura e alla corrosione

Buona stabilità termica

Adatto a vari processi di sputtering

Personalizzazione flessibile delle dimensioni e della forma cristallina

Assistenza post-vendita e supporto tecnico

Consulenza nella scelta dei materiali

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di ferro e cobalto

Fabbricazione di film magnetici sottili:
i target di sputtering in ossido di ferro e cobalto sono adatti alla fabbricazione di film magnetici sottili ad alte prestazioni per dispositivi di memorizzazione magnetica, sensori e dispositivi microelettronici, garantendo la stabilità delle prestazioni.

Deposizione di dispositivi elettronici:
possono essere utilizzati per la deposizione di film sottili in dispositivi elettronici, migliorando la stabilità e l’affidabilità delle funzionalità dei dispositivi.

Rivestimenti funzionali catalitici:
adatti per la preparazione di rivestimenti catalitici funzionali, garantiscono una distribuzione uniforme dei componenti attivi e migliorano l’efficienza catalitica.

Ricerca e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzati negli istituti di ricerca e nei dipartimenti di ricerca e sviluppo aziendali per i test delle prestazioni e l’ottimizzazione dei parametri di processo dei materiali magnetici a film sottile.

Domande frequenti

D1: A quale tipo di apparecchiatura di sputtering è adatto il bersaglio di sputtering di ossido di ferro e cobalto?
R1: Può essere utilizzato in apparecchiature di sputtering magnetronico, sputtering RF e sputtering DC. Le specifiche del bersaglio vengono selezionate in base alla potenza e alle dimensioni.

D2: La forma cristallina del bersaglio può essere personalizzata?
R2: Sì, supportiamo la fornitura di diverse forme cristalline dei bersagli in base ai requisiti dell’applicazione per soddisfare i requisiti di prestazione.

D3: Il target è soggetto a crepe o porosità?
R3: Preparato utilizzando un processo metallurgico ad alta densità, la microstruttura uniforme riduce efficacemente il rischio di crepe e porosità.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio del target?
R4: Si consiglia di conservarlo in un ambiente asciutto e ventilato, evitando l’umidità, la contaminazione e l’esposizione prolungata all’aria per mantenere la stabilità delle prestazioni.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:

Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)

Rapporto di ispezione delle dimensioni

Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella fornitura stabile di target di sputtering in ossido di ferro e cobalto ad alte prestazioni.
Grazie a un sistema di gestione della qualità maturo e a capacità di personalizzazione flessibili, siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alle applicazioni industriali, contribuendo al progresso efficiente dei progetti.