Ossido di bario titanio e stagno

Obiettivi di sputtering all’ossido di bario titanio e stagno Panoramica

L’ossido di bario-titanio-stagno sono progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Sono caratterizzati da un’elevata purezza e da un’eccellente densità, che assicurano una deposizione uniforme e costante del film. La loro purezza del 99,9% e il contenuto di impurità estremamente basso li rendono eccellenti per applicazioni in ceramiche funzionali e dispositivi elettronici.

Offriamo target di sputtering all’ossido di bario-titanio-stagno in una varietà di forme e dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, che possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze dei clienti. Forniamo anche un’ampia servizio post-venditae non esitate a contattarci per qualsiasi domanda.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,9%
L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
Dimensioni e forme personalizzabili
Incollaggio mirato servizi disponibili
Eccellente stabilità termica e chimica

Applicazioni del target di sputtering all’ossido di bario titanio e stagno

Film sottili ceramici funzionali: Utilizzato per la produzione di film sottili strutturati in perovskite ad alte prestazioni, ampiamente utilizzati in dispositivi piezoelettrici, ferroelettrici e sensori.
Dispositivi elettronici: Adatto alla fabbricazione di componenti elettronici come transistor a film sottile e condensatori.
Materiali optoelettronici: Utilizzati per la produzione di film sottili optoelettronici multifunzionali, che migliorano l’efficienza e la stabilità dei dispositivi.

Rapporti

Ogni lotto di target di sputtering BaTiSnO₃ viene fornito con un Certificato di analisi (COA), scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti sulla qualità. Offriamo anche servizi di test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto sia conforme agli standard del cliente.