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Ossido di bario-stagno

Chemical Name:
Ossido di bario-stagno
Formula:
BaSnO3
Product No.:
565000
CAS No.:
12009-18-6
EINECS No.:
234-545-2
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Class 6.1 / UN1564 / PG II
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
565000ST001 BaSnO3 99.9% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
565000ST002 BaSnO3 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
565000ST003 BaSnO3 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
565000ST004 BaSnO3 99.9% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
565000ST001
Formula
BaSnO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
565000ST002
Formula
BaSnO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
565000ST003
Formula
BaSnO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
565000ST004
Formula
BaSnO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Obiettivi di sputtering all’ossido di bario-stagno Panoramica

I bersagli sputtering in ossido di bario-stagno sono progettati specificamente per processi avanzati di deposizione di film sottili. Offrono un’eccellente stabilità chimica e struttura cristallina, garantendo film depositati di alta qualità e uniformi. Con una purezza del 99,9%, la loro densità aumenta significativamente le proprietà elettriche e ottiche dei film, rendendoli adatti alla deposizione di un’ampia gamma di film sottili funzionali.

Offriamo target di sputtering all’ossido di bario-stagno in una varietà di forme e dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, che possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze dei clienti. Forniamo anche un’assistenza assistenza post-vendita per garantire un utilizzo senza preoccupazioni.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,9%
La struttura densa e ad alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
Dimensioni e forme personalizzate disponibili
Incollaggio del target disponibile
Eccellente stabilità chimica e struttura cristallina
Adatto per dispositivi elettronici, film conduttivi trasparenti e ossidi funzionali

Applicazioni del target di sputtering all’ossido di bario-stagno

Pellicole conduttive trasparenti: materiali in ossido conduttivo trasparente (TCO) ad alte prestazioni utilizzati in touch screen, OLED e celle solari.
Dispositivi funzionali in ossido: Utilizzati nella produzione di strati di film sottile per dispositivi avanzati come dispositivi elettronici ad alta mobilità e sensori di gas.
Materiali per transistor: Utilizzati come materiali per lo strato attivo nei transistor a semiconduttore di ossido. Celle solari: Utilizzati come elettrodi o strati tampone, migliorano l’efficienza e la stabilità del dispositivo.

Rapporti

Ogni lotto di target di sputtering BaSnO₃ viene fornito con un dettagliato Certificato di analisi (COA), Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti di prova pertinenti. I test di qualità di terze parti sono supportati per garantire la conformità agli standard del cliente e del settore.

Formula molecolare: BaSnO₃
Peso molecolare: 293,15 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico denso di colore grigio chiaro o bianco sporco con superficie liscia e uniforme
Densità: Circa 6,3 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: > 1.600°C
Struttura cristallina: Perovskite cubica

Parola segnale:
Avvertenza
Indicazioni di pericolo:

H301 Tossico per ingestione.
H312 Nocivo a contatto con la pelle.
H315 Provoca irritazione cutanea.
H319 Provoca grave irritazione agli occhi.
H331 Tossico se inalato.
H335 Può causare irritazione alle vie respiratorie.

Imballaggio interno: Sacchetti di plastica sigillati a doppio strato o sacchetti di alluminio per proteggere dall’umidità e dalle perdite.
Imballaggio esterno: Fusto in ferro o in fibra, a seconda del peso, con coperchio sigillato e rinforzato.
Imballaggio pericoloso: Imballaggio certificato dalle Nazioni Unite, conforme alle normative per il trasporto di materiali pericolosi.

COD 565000ST Categoria Marchio:

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