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Ossido di bario e vanadio

Chemical Name:
Ossido di bario e vanadio
Formula:
BaVO3
Product No.:
56230800
CAS No.:
39416-30-3
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
56230800ST001 BaVO3 99.9% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
56230800ST002 BaVO3 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
56230800ST003 BaVO3 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
56230800ST004 BaVO3 99.9% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
56230800ST005 BaVO3 99.9% Ø 203.2 mm x 6.35 mm Inquire
56230800ST006 BaVO3 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
56230800ST007 BaVO3 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
56230800ST001
Formula
BaVO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
56230800ST002
Formula
BaVO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
56230800ST003
Formula
BaVO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
56230800ST004
Formula
BaVO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
56230800ST005
Formula
BaVO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Product ID
56230800ST006
Formula
BaVO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
56230800ST007
Formula
BaVO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Obiettivi di sputtering all’ossido di bario vanadio Panoramica

L’ossido di bario e vanadio sono progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Sono caratterizzati da un’elevata purezza e da un’eccellente densità, che assicurano una formazione uniforme e una qualità costante del film. Con una purezza fino al 99,99% e livelli di impurità estremamente bassi, eccellono nella fabbricazione di film sottili ceramici funzionali e dispositivi elettronici.

Offriamo target di sputtering all’ossido di bario e vanadio in una varietà di forme e dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, che possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze dei clienti. Forniamo anche un’assistenza post-vendita completa; sentitevi liberi di contattarci per qualsiasi domanda.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: dal 99,9% al 99,99
L’alta densità garantisce una crescita uniforme del film sottile
Dimensioni e forma personalizzabili
Incollaggio mirato servizio disponibile
Eccellente stabilità chimica e proprietà meccaniche

Applicazioni del target di sputtering in ossido di bario e vanadio

Film sottili ceramici funzionali: Utilizzato per la produzione di film sottili di ossido di perovskite ad alte prestazioni per sensori, dispositivi ferroelettrici e altro.
Dispositivi elettronici: Prestazioni eccellenti in applicazioni semiconduttive ed elettrocatalitiche, adatte alla fabbricazione di transistor ed elettrodi a film sottile ad alte prestazioni.
Materiali optoelettronici multifunzionali: Utilizzati nei film sottili fotovoltaici e ottici per migliorare l’efficienza e la stabilità dei dispositivi.

Rapporti

Ogni lotto di target di sputtering BaVO₃ viene fornito con un Certificato di analisi (COA), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i relativi rapporti di qualità. Offriamo anche servizi di test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto sia conforme agli standard del cliente.

Formula molecolare: BaVO₃
Peso molecolare: 183,92 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico denso di colore verde scuro con superficie liscia
Densità: Circa 5,8 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 1.300°C
Struttura cristallina: Perovskite (ortorombica o cubica, a seconda delle condizioni di preparazione)

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e inscatolati per evitare contaminazioni e umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 56230800ST Categoria Marchio:

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