Ossido di bario

Obiettivi di sputtering all’ossido di bario Panoramica

Ossido di bario sono materiali ceramici ad alte prestazioni progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Con una purezza del 99,9%, offrono densità e stabilità eccellenti, assicurando una formazione uniforme del film, una buona adesione e impurità minime.

Offriamo target di ossido di bario per sputtering in una varietà di forme e dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, e possiamo personalizzarli per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Forniamo inoltre un’assistenza tecnica completa post-vendita. Se avete domande durante l’uso, non esitate a contattarci contattarci.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,9%
L’alta densità garantisce film sottili uniformi e stabili
Dimensioni e forma personalizzabili per soddisfare i diversi requisiti di processo
Incollaggio mirato servizi disponibili
Eccellente stabilità chimica e resistenza alle alte temperature, adatto per ambienti sotto vuoto e ad alta temperatura

Applicazioni del target di ossido di bario per sputtering

Dispositivi optoelettronici: Utilizzato nella fabbricazione di film sottili per diodi a emissione luminosa (LED), laser e altre applicazioni, per migliorare le prestazioni dei dispositivi
Film sottili ottici: Utilizzati come strati riflettenti e rivestimenti funzionali per migliorare le prestazioni e la durata dei componenti ottici
Dispositivi a semiconduttore dispositivi a semiconduttore: Utilizzati come materiali dielettrici o altri strati funzionali in processi specifici
Sensori e dispositivi energetici: Utilizzati per la deposizione di film sottili in sensori di gas, celle a combustibile e altre applicazioni

Rapporti

Forniamo un dettagliato Certificato di analisi (COA), Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti di prova pertinenti per ogni lotto di target di sputtering BaO. Supportiamo test di terze parti per garantire la qualità e l’affidabilità del prodotto.