I target di sputtering in ossido di alluminio manganese lantanio sono materiali ad alte prestazioni progettati per processi avanzati di deposizione di film sottili. Il materiale ha un’eccellente purezza chimica e una microstruttura densa, che garantisce una formazione uniforme del film, una forte adesione e un contenuto di impurità estremamente basso, soddisfacendo i severi requisiti dell’elettronica e dell’ottica di fascia alta.
Offriamo bersagli sputtering in ossido di alluminio manganese lantanio in una varietà di forme e dimensioni, tra cui rotonde e rettangolari, e supportiamo specifiche personalizzate in base alle esigenze dei clienti. Sia per la ricerca scientifica che per la produzione industriale, siamo in grado di fornire una gamma completa di supporto tecnico e di servizio post-vendita per garantire il regolare svolgimento del vostro progetto.
Caratteristiche principali del prodotto:
Elevata purezza, conforme al rigoroso standard del 99,9%.
Eccellente densità, che garantisce la deposizione uniforme di film sottili
Personalizzazione flessibile delle dimensioni e della forma per soddisfare i diversi requisiti di processo
Fornisce servizi di rilegatura degli obiettivi
Ampiamente utilizzato nei dispositivi a semiconduttore, nell’archiviazione magnetica, nei componenti ottici e nei rivestimenti funzionali
Applicazioni
Semiconduttori: utilizzati per produrre strati funzionali di film sottile in dispositivi elettronici ad alte prestazioni
Immagazzinamento magnetico: Preparazione di film magnetici per ottenere una memorizzazione di dati ad alta densità
Dispositivi ottici: Formazione di rivestimenti funzionali di alta qualità su lenti e riflettori
Rivestimenti funzionali: utilizzati nei sensori e in altri materiali avanzati
Rapporti
Ogni lotto di prodotti è corredato da un certificato di analisi (COA), da una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e dai relativi rapporti di qualità. Allo stesso tempo, supportiamo test di terze parti per garantire che la qualità dei prodotti soddisfi i più elevati standard industriali.
Formula molecolare: LaMn₀.₂Al₀.₈O₃
Peso molecolare: circa 190,00 g/mol
Aspetto: bersaglio ceramico denso grigio-bianco, superficie liscia
Densità: ≥ 5,0 g/cm³ (corpo sinterizzato denso)
Punto di fusione: circa 1.500 °C (materiale ceramico)
Solubilità: insolubile in acqua e nei solventi organici convenzionali
Conduttività: allo stato solido presenta proprietà da semiconduttore
Stabilità termica: stabile alle alte temperature, adatto per ambienti di processo ad alta temperatura
Coefficiente di espansione termica: circa 8 × 10-⁶ K-¹ (adatto al processo di deposizione di film sottili)
Struttura cristallina: sistema ortorombico
Proprietà magnetiche: paramagnetico, proprietà magnetiche stabili
Stabilità chimica: chimicamente inerte, resistente alla corrosione di acidi e alcali, adatto a una varietà di ambienti atmosferici
Resistenza alla corrosione: stabilità a lungo termine in atmosfere ossidanti e inerti.
Proprietà meccaniche: struttura ceramica densa, elevata resistenza meccanica, adatta al processo di sputtering
Imballaggio interno: Sacchetto sigillato sottovuoto per proteggere dalla contaminazione e dall’umidità.
Imballaggio esterno: Cartone o scatola di legno, a seconda delle dimensioni e del peso.
Obiettivi fragili: Viene utilizzato uno speciale imballaggio protettivo per garantire un trasporto sicuro.
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