I target di nitruro di alluminio sono materiali ceramici ad alte prestazioni caratterizzati da un’eccellente conduttività termica, un elevato isolamento elettrico e una forte stabilità chimica. Queste proprietà li rendono la scelta ideale per la deposizione di film sottili in applicazioni di semiconduttori, optoelettronica e strati dielettrici.
I nostri target di sputtering in nitruro di alluminio sono prodotti con elevata purezza e microstruttura raffinata per garantire un’eccellente uniformità del film, una forte adesione e tassi di deposizione stabili. Che si tratti di ricerca e sviluppo o di produzione industriale su larga scala, offriamo una qualità affidabile e un supporto tecnico professionale per aiutarvi a soddisfare i vostri requisiti specifici di prestazione.
Obiettivi sputtering in nitruro di alluminio di elevata purezza: ≥99,9%
Basso contenuto di ossigeno e impurità per una qualità superiore del film
Disponibili in varie forme (disco, rettangolare) e dimensioni
Struttura a grana stretta e composizione omogenea per uno sputtering uniforme
Dispositivi a semiconduttore: Strati isolanti, strati tampone e film di passivazione
Componenti optoelettronici: Film sottili per LED, diodi laser e fotorivelatori
Rivestimenti per la gestione termica: Film sottili su substrati che necessitano di un’efficiente dissipazione del calore
Dispositivi a onde acustiche superficiali (SAW): Strati dielettrici ad alte prestazioni
Rivestimenti protettivi: In ambienti chimici o termici difficili, che richiedono film ceramici stabili
Ogni lotto di target di sputtering AlN viene consegnato con un certificato di analisi (COA) e una scheda di sicurezza del materiale (MSDS). Le analisi standard comprendono purezza chimica, densità, composizione delle fasi (XRD) e ispezione della microstruttura (SEM). Ulteriori test di terze parti e rapporti di conformità RoHS/REACH sono disponibili su richiesta.
Qualità costante: Stretto controllo del processo per ottenere granulometria e densità uniformi
Personalizzazione: Dimensioni, forma e servizio di incollaggio su misura per il vostro sistema
Competenza tecnica: Assistenza per i parametri di sputtering, le proprietà del film e la risoluzione dei problemi
Consegna globale: Spedizione internazionale sicura e conforme con documentazione completa
Formula chimica: AlN
Aspetto: Da bianco a grigio chiaro
Densità: ~3,255 g/cm³
Punto di fusione: ~2.500 °C
Conduttività termica: ≥170 W/m-K (teorica)
Resistività elettrica: 10¹³ Ω-cm
Solubilità: si idrolizza lentamente in acqua e acidi
Struttura cristallina: Esagonale (wurtzite)
Stabilità: Sensibile all’umidità; stabile in atmosfere inerti.
Non classificato come pericoloso
Imballaggio interno: Sacchetto sigillato sottovuoto per proteggere dalla contaminazione e dall’umidità.
Imballaggio esterno: Cartone o scatola di legno, a seconda delle dimensioni e del peso.
Obiettivi fragili: Viene utilizzato uno speciale imballaggio protettivo per garantire un trasporto sicuro.
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