I target di nitruro di afnio sono bersagli ceramici avanzati progettati specificamente per processi di deposizione di film sottili ad alte prestazioni. La loro elevata purezza e l’eccellente densità garantiscono una deposizione uniforme e stabile di film sottili, un’adesione superiore e un contenuto di impurità estremamente basso, soddisfacendo le esigenze dell’elettronica, dell’ottica e dei rivestimenti protettivi.
Offriamo target di nitruro di afnio per sputtering in una varietà di dimensioni e forme, personalizzabili per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. Forniamo anche un’assistenza tecnica completa assistenza tecnica per garantire risposte tempestive a qualsiasi domanda durante l’uso.
Purezza: 99,5%
L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
Dimensioni e forme personalizzabili
Incollaggio mirato disponibile
Adatto per dispositivi a semiconduttore, rivestimenti ottici e film protettivi resistenti all’usura
Semiconduttori: Utilizzato per la deposizione di rivestimenti protettivi ad alta temperatura e ad alta frequenza, per migliorare le prestazioni e la durata dei dispositivi.
Rivestimenti ottici: Formano film protettivi con elevata durezza, alto indice di rifrazione e resistenza all’usura.
Rivestimenti protettivi: Utilizzati per l’indurimento superficiale di utensili da taglio, parti meccaniche e altre applicazioni, migliorano la resistenza all’usura e alla corrosione.
Film sottili funzionali: Utilizzati per la deposizione di film sottili in dispositivi microelettronici e componenti ottici specializzati.
Forniamo un completo Certificato di analisi (COA), la scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i relativi rapporti tecnici per ogni lotto di target di sputtering HfN. Supportiamo anche test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto sia conforme agli standard internazionali e ai requisiti dei clienti.
Formula molecolare: HfN
Peso molecolare: Circa 195,63 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico grigio scuro, denso, con superficie liscia.
Densità: Circa 12,7 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 3.500°C (punto di fusione elevato)
Struttura cristallina: Struttura cubica di cloruro di sodio (tipo NaCl)
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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