Nichel Manganese Gallio

Panoramica sui target di sputtering in nichel-manganese-gallio

I target di sputtering
in nichel-manganese-gallio
sono target in lega a base di nichel multicomponente utilizzati principalmente per la deposizione e la preparazione di film sottili in lega funzionale e materiali correlati all’accoppiamento magnetostrutturale.

Siamo in grado di fornire target di sputtering NiMnGa con rapporti composizionali precisi e strutture dense, supportando varie dimensioni e requisiti di processo. Contattateci
per informazioni tecniche.

Caratteristiche principali del prodotto

Controllo stabile della composizione multicomponente
Microstruttura uniforme della lega
Buona ripetibilità della composizione del film sottile
Adatto per processi di sputtering con magnetron
Elevata densità del target
Bonding
e backplane personalizzati
Supporto alla lavorazione personalizzata

Applicazioni dei target di sputtering in nichel-manganese-gallio

Preparazione di film sottili in lega funzionale: adatto alla preparazione di film sottili in lega con caratteristiche magnetiche o strutturali speciali, in grado di soddisfare le esigenze di ricerca e applicazione dei materiali funzionali.
Ricerca sui materiali intelligenti e sui materiali di risposta: utilizzati per costruire strutture multistrato sinergiche nella ricerca sui materiali intelligenti e sui relativi meccanismi di risposta.
Sviluppo di microstrutture e dispositivi: possono essere utilizzati per la deposizione di strati funzionali in dispositivi a microstruttura, in applicazioni che richiedono un’elevata consistenza della composizione del film e stabilità strutturale.
Ricerca scientifica ed esplorazione di nuovi materiali: ampiamente utilizzati nella ricerca sperimentale da parte di istituti di ricerca in sistemi di leghe multielemento, controllo della struttura dei film sottili ed evoluzione delle prestazioni.

Domande frequenti

D1: Per quale processo di sputtering è adatto il target di sputtering NiMnGa?
R1: Può essere utilizzato nei processi di sputtering magnetron convenzionali. I parametri di processo specifici devono essere ottimizzati in base alle condizioni delle apparecchiature.

D2: È possibile regolare il rapporto dei componenti ternari del target?
R2: Sì, è possibile fornire soluzioni personalizzate con diversi rapporti dei componenti in base agli obiettivi di prestazione del film sottile.

D3: Il target multielemento è stabile durante la deposizione?
R3: In condizioni di potenza e atmosfera ragionevoli, il target può mantenere una buona stabilità di deposizione.

D4: È adatto per la ricerca e l’uso sperimentale?
R4: Sì, è possibile fornire dimensioni ridotte e specifiche non standard per le fasi di ricerca e sviluppo e verifica.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione e nella lavorazione di target di sputtering in lega multicomponente, ponendo l’accento sulla precisione della composizione, l’uniformità strutturale e l’adeguatezza del processo, in grado di fornire un supporto affidabile per la ricerca di film sottili funzionali e nuovi materiali.