Monossido di cobalto (ossido di cobalto)

Target di sputtering al monossido di cobalto Panoramica

I target di sputtering
al monossido di cobalto
sono target di ossido di cobalto ad alta purezza con eccellente stabilità magnetica e chimica, ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili magnetici, batterie e dispositivi elettronici.

Offriamo target
di sputtering CoO
di varie dimensioni, forme cristalline e gradi di purezza e forniamo assistenza per i test sui campioni e la consulenza tecnica. Contattateci
per informazioni dettagliate e suggerimenti sulle applicazioni.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura cristallina densa e uniforme

Buona stabilità magnetica

Eccellente stabilità termica

Resistente all’usura e alla corrosione

Adatto a vari processi di sputtering

Personalizzazione flessibile delle dimensioni e della forma cristallina

Rigoroso controllo della uniformità dei lotti

Ciclo di consegna flessibile

Può essere utilizzato in combinazione con esperimenti di ricerca scientifica e sviluppo di processi

Applicazioni dei target di sputtering al monossido di cobalto

Preparazione di film sottili magnetici:
adatto alla preparazione di film sottili magnetici ad alte prestazioni per dispositivi di archiviazione magnetica, sensori e dispositivi microelettronici, garantendo proprietà magnetiche stabili.

Deposizione su dispositivi elettronici:
utilizzato per la deposizione di film sottili in dispositivi elettronici per migliorare la stabilità funzionale e l’affidabilità dei dispositivi.

Film sottili per materiali di batterie:
possono essere utilizzati nella preparazione di film sottili per elettrodi positivi per batterie agli ioni di litio e altri dispositivi energetici, migliorando la capacità della batteria e le prestazioni del ciclo.

Ricerca e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzati negli istituti di ricerca e nei dipartimenti di ricerca e sviluppo aziendali per i test sulle prestazioni dei materiali e l’ottimizzazione dei parametri di processo.

Domande frequenti

D1: Per quali processi di sputtering sono adatti i target di sputtering al monossido di cobalto?
A1: Adatti per apparecchiature di sputtering magnetronico, sputtering RF e sputtering DC. Le specifiche possono essere selezionate in base alla potenza e alle dimensioni del bersaglio.

D2: È possibile personalizzare la forma cristallina del bersaglio?
A2: Sì, possiamo fornire bersagli con diverse forme cristalline in base alle esigenze del cliente per soddisfare i requisiti di prestazione dell’applicazione.

D3: I bersagli sono soggetti a crepe o porosità durante lo sputtering?
A3: Preparati utilizzando un processo metallurgico ad alta densità, i grani sono uniformi, riducendo efficacemente il rischio di crepe e porosità.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei target?
A4: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto e ventilato, evitando l’umidità, la contaminazione e l’esposizione prolungata all’aria per mantenere la stabilità delle prestazioni.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:

Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)

Rapporto di ispezione delle dimensioni

Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella fornitura stabile di target di sputtering in ossido di cobalto ad alta purezza.
Grazie a un sistema di gestione della qualità completo e a capacità di personalizzazione flessibili, siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alle applicazioni industriali, contribuendo al progresso efficiente dei progetti.