I substrati
di ossido di litio e niobio
sono substrati funzionali altamente stabili, adatti alla crescita di film sottili e alla produzione di dispositivi elettronici. Sono ampiamente utilizzati nella ricerca sulle batterie agli ioni di litio, nei dispositivi optoelettronici e nella deposizione di rivestimenti funzionali.
Offriamo substrati LNO in varie dimensioni e spessori, con superfici lisce e orientamenti cristallini selezionabili per soddisfare le esigenze della ricerca e delle applicazioni industriali. Contattateci
subito per richiedere campioni e soluzioni personalizzate!
Orientamento cristallino controllabile, vantaggioso per la crescita di film sottili
Superficie liscia, basso tasso di difetti
Dimensioni e spessori personalizzabili
Elevata stabilità termica, adatta a processi ad alta temperatura
Supporta la ricerca e le applicazioni industriali
Risposta rapida dal nostro team tecnico
Deposizione di film sottili:
i substrati LNO sono utilizzati nei processi di preparazione di film sottili come sputtering magnetronico, PLD e CVD per garantire l’uniformità del film e la qualità della cristallinità.
Ricerca sulle batterie agli ioni di litio:
come substrato funzionale, supporta la deposizione e il test delle prestazioni di materiali elettrodici ad alte prestazioni.
Dispositivi optoelettronici e microelettronici:
fornisce substrati piatti con orientamento cristallino adatti alla crescita di sensori, dispositivi ottici e strutture microelettroniche.
D1: Quali opzioni di orientamento cristallino sono disponibili per i substrati LNO?
R1: Sono disponibili diversi orientamenti cristallini, come (001), (110), ecc., selezionati in base ai requisiti sperimentali.
D2: È possibile personalizzare le dimensioni e lo spessore del substrato?
R2: Sì, possiamo fornire varie specifiche in base alle esigenze delle apparecchiature del cliente.
D3: Qual è la rugosità superficiale del substrato LNO?
R3: La superficie è lucidata con precisione, con una rugosità inferiore al livello nanometrico, adatta per la deposizione di film sottili ad alta precisione.
D4: Può essere utilizzato per processi di film sottile ad alta temperatura?
R4: Adatto alla lavorazione ad alta temperatura, con elevata stabilità del materiale, garantisce una crescita stabile del film sottile.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Abbiamo molti anni di esperienza nella produzione di substrati per materiali funzionali. I nostri prodotti hanno superfici lisce e orientamenti cristallini controllabili, a supporto della ricerca scientifica e delle applicazioni industriali. Il nostro team tecnico è in grado di fornire soluzioni personalizzate e risposte rapide per aiutare i clienti a completare in modo efficiente la deposizione di film sottili e la fabbricazione di dispositivi.
Peso molecolare: 147,85 g/mol
Aspetto: Cristallo singolo incolore e trasparente o leggermente colorato / wafer lucidato
Densità: 4,64 g/cm³
Punto di fusione: 1253 °C
Struttura cristallina: Trigonale
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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