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Lega manganese-germanio

Chemical Name:
Lega manganese-germanio
Formula:
MnGe
Product No.:
253200
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
253200ST001 MnGe 99.5% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
253200ST002 MnGe 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
253200ST001
Formula
MnGe
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
253200ST002
Formula
MnGe
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm

Target di sputtering in lega di manganese e germanio Panoramica

I target di sputtering in lega
di manganese e germanio
sono materiali di deposizione di film sottili ad alta purezza costituiti da una lega di manganese (Mn) e germanio (Ge), utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per generare film sottili di alta qualità. Questi target sono adatti alla fabbricazione di film sottili in materiali elettronici, ottici
e magnetici e sono materie prime importanti per la preparazione di film sottili funzionali avanzati.

Siamo in grado di fornire target di sputtering in lega di manganese e germanio di diverse purezze, dimensioni e forme in base alle esigenze di processo dei clienti. Contattateci
per assistenza tecnica
e preventivi personalizzati.

Caratteristiche principali del prodotto

Target in lega ad alta purezza
Eccellente stabilità chimica
Compatibile con varie apparecchiature PVD
Struttura cristallina densa Dimensioni e
forme personalizzabili

Buona uniformità di formazione del film
Fornitura stabile in lotti
Rigoroso sistema di controllo qualità

Applicazioni dei target di sputtering in lega di manganese e germanio

Preparazione di film sottili
per semiconduttori
e microelettronica: i target MnGe sono utilizzati nei sistemi di sputtering magnetronico per preparare film sottili funzionali, che possono essere utilizzati nella fabbricazione di circuiti integrati, strati di elettrodi e dispositivi microelettronici per migliorare la stabilità e le prestazioni dei dispositivi.

Film sottili magnetici e materiali di memorizzazione magnetica: utilizzati per depositare materiali a film sottile con proprietà magnetiche, soddisfano le esigenze di controllo delle proprietà magnetiche nei dispositivi di memorizzazione magnetica e nei gruppi sensori. Film sottili

ottici
e dispositivi optoelettronici: i film sottili MnGe possono essere utilizzati per rivestimenti ottici e per il miglioramento delle funzioni superficiali nei dispositivi optoelettronici, adatti per applicazioni di visualizzazione e rilevamento ottico.

Ricerca e sviluppo di materiali: negli esperimenti di ricerca scientifica e nello sviluppo di nuovi materiali, i target MnGe sono utilizzati come materiali di base per esplorare nuove proprietà dei film sottili e preparare materiali funzionali.

Domande frequenti

D1: Quali sono i componenti principali di un target di sputtering in lega di manganese e germanio?
R1: I target di sputtering MnGe sono target in composti metallici realizzati con leghe di manganese e germanio ad alta purezza, utilizzati per la deposizione di film sottili.

D2: Per quali processi di sputtering è adatto questo target?
R2: Questo target può essere utilizzato in tecniche di deposizione fisica da vapore come lo sputtering magnetronico e può essere applicato sia in sistemi DC che RF.

D3: Come scegliere la dimensione e la forma appropriate del target?
R3: La dimensione e la forma del target devono essere determinate in base alle specifiche dell’apparecchiatura e ai requisiti dell’area di deposizione. Possiamo personalizzare in base alle esigenze di progettazione del cliente.

Q4: Perché è necessario un target in lega ad alta purezza?
A4: I target in lega ad alta purezza possono ridurre le impurità nel film sottile, migliorando la stabilità delle proprietà fisiche e l’uniformità delle prestazioni del dispositivo.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Disponiamo di un sistema avanzato di produzione e collaudo dei target. Dalla selezione delle materie prime e dalla preparazione delle leghe allo stampaggio, alla sinterizzazione e alla post-lavorazione, controlliamo rigorosamente la qualità per garantire l’elevata purezza e l’uniformità dei target di sputtering MnGe. Supportiamo anche specifiche personalizzate e assistenza tecnica
professionale,
fornendo una base materiale stabile e affidabile per i processi di preparazione dei film sottili dei clienti.

Formula molecolare: MnGe
Peso molecolare: 125,75 g/mol
Aspetto: Grigio-argento
Densità: 7.0 g/cm³
Struttura cristallina: Cubica (tipo B20)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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