I target di sputtering in lega
di zirconio e silicio
sono target metallici compositi che combinano resistenza alle alte temperature, composizione stabile del film ed eccellenti proprietà meccaniche. Sono comunemente utilizzati per preparare film sottili funzionali, rivestimenti duri e materiali microelettronici.
Offriamo target di sputtering in ZrSi in varie dimensioni, purezze e strutture, inclusi target pressati isostaticamente a caldo (HIP), target pressati a caldo, target sinterizzati pressati a freddo e target di rivestimento di grandi dimensioni. Le forme, gli spessori e i rapporti di composizione possono essere personalizzati in base ai modelli delle apparecchiature. Contattateci
se avete bisogno di disegni personalizzati.
Composizione uniforme, superficie del target densa
Velocità di sputtering stabile
Elevata purezza, basse inclusioni
Supporta varie dimensioni e incollaggi personalizzati
Adatto per sputtering continuo a lungo termine
Eccellente adesione del film
Forte compatibilità di processo
Preparazione di rivestimenti duri: deposizione di film protettivi duri per utensili da taglio, stampi e parti resistenti all’usura. Film
ottici
sottili: utilizzati per la fabbricazione di rivestimenti antiriflesso, strati protettivi ottici e strutture ottiche funzionali.
Materiali per film sottili elettronici: utilizzati per circuiti integrati, dispositivi micro/nano e ingegneria dei film sottili semiconduttori.
Film resistenti alle alte temperature: utilizzati per applicazioni di film resistenti alla corrosione e strutturalmente rinforzati in ambienti ad alta temperatura.
D1: Che tipo di imballaggio viene tipicamente utilizzato per i target di sputtering ZrSi?
A1: I target sono tipicamente imballati in scatole di schiuma antiurto con chiusura sottovuoto e ulteriormente rinforzati con uno strato esterno a seconda del metodo di trasporto per garantire che la superficie sia protetta da graffi, urti e ossidazione.
D2: Quali servizi di lavorazione sono disponibili?
A2: Offriamo incollaggio di piastre posteriori, saldatura di target, rettifica superficiale, lavorazione di precisione dimensionale e progettazione di fori personalizzati per soddisfare le esigenze di serraggio di varie marche di apparecchiature di sputtering.
Q3: Come devono essere conservati correttamente i target per sputtering?
A3: I target devono essere conservati in un luogo asciutto e sigillati per evitare umidità, impronte digitali e contaminazione da olio. Per la conservazione a lungo termine, si consiglia di collocarli in un ambiente con gas inerte o in un sacchetto sigillato per mantenere la qualità della superficie del target.
Q4: Quali sono i vantaggi della purezza e delle prestazioni del prodotto?
A4: Offriamo diversi gradi di purezza. I target hanno un’alta densità e una buona uniformità compositiva, adatta per applicazioni che richiedono un’elevata uniformità e stabilità del film.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Possediamo processi di produzione dei target maturi e attrezzature professionali, che ci consentono di produrre in modo stabile target di sputtering ZrSi ad alta densità, a basso difetto e di composizione uniforme. Attraverso una rigorosa selezione delle materie prime, controlli di qualità e processi di produzione standardizzati, garantiamo un’eccellente uniformità e prestazioni di sputtering in ogni lotto. Inoltre, forniamo consulenza tecnica, consegna rapida, specifiche personalizzate e fornitura a lungo termine, offrendo un supporto affidabile ai clienti nell’ottimizzazione dei processi di rivestimento, nello sviluppo di film sottili e nella stabilità della produzione. Siamo un partner affidabile nella catena di fornitura dei materiali.
Formula molecolare: ZrSi
Aspetto: Materiale denso di colore grigio-argento con superficie liscia.
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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