Lega di zirconio e alluminio al silicio

Panoramica sul bersaglio rotante in lega di silicio, alluminio e zirconio

Il bersaglio rotante in lega
di silicio, alluminio e zirconio
è un bersaglio rotante in lega multi-elemento per processi di sputtering continui. Combinando le proprietà del silicio, dell’alluminio e dello zirconio, consente una deposizione di film sottili altamente stabile. È ampiamente utilizzato negli strati metallici dei pannelli di visualizzazione, negli strati funzionali dei semiconduttori, nei circuiti a film sottile e nella deposizione di rivestimenti funzionali su grandi superfici.

Siamo in grado di fornire target rotanti in lega di silicio, alluminio e zirconio di diverse dimensioni, interfacce e strutture in base alle esigenze delle apparecchiature dei clienti, supportando l’adattamento dei processi e l’integrazione tecnologica. Contattateci
direttamente per trovare la soluzione più adatta alle vostre esigenze.

Caratteristiche principali del prodotto

La struttura rotante migliora l’utilizzo del bersaglio.
Buona stabilità di sputtering della lega multi-elemento.
Eccellente uniformità del film e spessore costante.
Deposizione continua stabile per lunghi periodi.
Eccellente gestione termica ed effetto di raffreddamento. Dimensioni, interfaccia e struttura
personalizzabili
.

Applicazioni del bersaglio rotante in lega di silicio, alluminio e zirconio

Deposizione di film sottili metallici per pannelli di visualizzazione:
adatto per la deposizione di strati metallici o funzionali su grandi superfici in dispositivi di visualizzazione, garantendo l’uniformità del film e proprietà elettriche stabili.
Deposizione di strati funzionali semiconduttori:
nella produzione di dispositivi semiconduttori, i target rotanti in lega multipla forniscono una deposizione stabile di film sottili metallici, garantendo prestazioni costanti dei dispositivi.
Circuiti a film sottile e rivestimenti funzionali:
adatto per processi di deposizione continua di circuiti a film sottile, strati funzionali elettrici e rivestimenti protettivi, garantendo la densità e la stabilità del film.
Ricerca e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzato nella ricerca sperimentale e nell’ottimizzazione dei processi dei sistemi di sputtering rotanti, fornisce una base materiale per lo sviluppo di nuovi film sottili in lega multipla.

Domande frequenti

D1: Qual è la differenza tra un bersaglio rotante in lega di silicio-alluminio-zirconio e un bersaglio rotante in lega convenzionale?
A1: I target rotanti in lega multipla offrono una stabilità del film superiore e un controllo delle prestazioni del film sottile, soddisfacendo le esigenze di applicazioni con requisiti di conduttività e prestazioni meccaniche più elevati.

D2: Come viene garantita la gestione del calore durante il processo di sputtering?
A2: Il target rotante, combinato con un sistema di raffreddamento, disperde efficacemente il calore generato durante lo sputtering, mantenendo la stabilità del target.

Q3: Quali processi di sputtering sono adatti a questo tipo di bersaglio rotante in lega multipla?
A3: Adatto per DC, RF e altri comuni processi di deposizione fisica da vapore; è possibile effettuare regolazioni specifiche in base alle apparecchiature.

Q4: Come ottenere una deposizione di film sottile uniforme e costante?
A4: Controllando adeguatamente la potenza, la velocità di rotazione e le condizioni atmosferiche, è possibile ottenere una deposizione di film sottile uniforme, densa e stabile.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella fornitura orientata all’applicazione di bersagli rotanti di sputtering in lega multipla, ponendo l’accento sulla progettazione della struttura del bersaglio e sulla compatibilità delle apparecchiature, fornendo ai clienti soluzioni di deposizione di film sottili stabili e affidabili e un supporto tecnico efficiente.