| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 301300ST001 | ZnAl | 99.99% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST002 | ZnAl | 99.999% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST003 | ZnAl | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 301300ST004 | ZnAl | 99.999% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 301300ST005 | ZnAl | 99.999% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST006 | ZnAl | 99.999% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST007 | ZnAl | 99.999% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
I target di sputtering in lega
di zinco-alluminio
sono target metallici di alta qualità ampiamente utilizzati nei rivestimenti a film sottile, nei materiali per batterie e nella produzione di leghe ad alte prestazioni.
Offriamo target di sputtering ZnAl ad alta purezza adatti a varie esigenze di deposizione di film sottili e produzione di dispositivi elettronici. Contattateci
per ulteriori opzioni di personalizzazione.
Metallo ad alta purezza
Eccellenti prestazioni di sputtering
Proprietà chimiche stabili
Buona conduttività elettrica
Lunga durata
Elevata adattabilità
Servizi personalizzabili
Rigoroso controllo di qualità
Deposizione di film sottili: offre prestazioni eccellenti in vari processi di deposizione di film sottili ed è ampiamente utilizzato nella produzione di dispositivi optoelettronici, sensori e display.
Materiali per batterie: utilizzato nelle batterie agli ioni di litio e in altri materiali per elettrodi di batterie per migliorare le prestazioni e la stabilità delle batterie.
Leghe ad alte prestazioni: svolge un ruolo cruciale nella produzione di leghe ad alta temperatura, migliorandone significativamente la resistenza alle alte temperature e la robustezza.
Rivestimenti e protezione: ampiamente utilizzato nei rivestimenti superficiali, migliora efficacemente la resistenza alla corrosione e all’usura delle superfici metalliche.
D1: Qual è la purezza dei nostri target di sputtering ZnAl?
A1: I nostri target hanno una purezza del 99,999%. È possibile fornire purezze personalizzate in base alle esigenze del cliente.
D2: Per quali processi di sputtering sono adatti i target ZnAl?
A2: Adatti per processi di sputtering DC e RF, ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori e dispositivi optoelettronici.
D3: Come devono essere conservati i target di sputtering ZnAl?
R3: Devono essere conservati in un ambiente asciutto e ben ventilato, evitando il contatto diretto con l’aria umida per mantenerne la stabilità.
D4: Quali sono le caratteristiche prestazionali di sputtering dei target ZnAl?
R4: Hanno prestazioni di sputtering stabili, mantenendo un tasso di deposizione costante in varie condizioni operative, che li rende adatti alla produzione di film sottili ad alta precisione.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Forniamo target di sputtering ZnAl di alta qualità e purezza. Con un supporto tecnico professionale e un rigoroso controllo di qualità, ci impegniamo a fornire le migliori soluzioni per i vostri progetti, garantendo risultati di applicazione efficienti e affidabili.
Formula molecolare: ZnAl
Aspetto: Materiale di destinazione metallico bianco-argenteo, denso e uniforme, con una superficie brillante
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
