I target di sputtering in lega di
titanio-molibdeno
sono composti da titanio e molibdeno e combinano l’elevata resistenza del titanio con la resistenza alle alte temperature e alla corrosione del molibdeno. Questi target sono adatti a vari processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per la preparazione di film sottili metallici funzionali, rivestimenti resistenti alla corrosione e materiali per il trattamento superficiale di dispositivi microelettronici.
Offriamo target di sputtering in lega di titanio-molibdeno dalla composizione uniforme e dalla struttura densa, adatti per sistemi di sputtering con magnetrone DC o RF. Siamo in grado di personalizzare diverse dimensioni, forme e metodi di incollaggio in base alle esigenze dei clienti, per soddisfare sia i requisiti della ricerca che quelli della produzione industriale.
Il design della lega migliora le proprietà meccaniche del film sottile e la resistenza alle alte temperature e alla corrosione.
Eccellente adesione del film sottile e stabilità dell’interfaccia.
Adatto a vari substrati e condizioni di processo PVD.
La composizione stabile del bersaglio favorisce l’uniformità del film.
Supporta lo sputtering continuo e le applicazioni industriali.
Film sottili metallici funzionali e resistenti alle alte temperature:
adatto alla preparazione di film sottili funzionali resistenti alla corrosione e agli ambienti ad alta temperatura.
Rivestimenti compositi e modifica delle superfici:
utilizzato per preparare film compositi con elevata resistenza e resistenza alla corrosione, migliorando le proprietà superficiali e la durata.
Dispositivi elettronici e film sottili microstrutturali:
adatto per la deposizione di film sottili ad alta precisione in dispositivi microelettronici e rivestimenti superficiali funzionali.
Ricerca scientifica e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzato nelle università e negli istituti di ricerca per la ricerca su film sottili metallici ad alte prestazioni e parametri di processo.
D1: Per quali tipi di applicazioni di film sottili è adatto il bersaglio di sputtering in lega di titanio-molibdeno?
R1: Può essere utilizzato per la preparazione di film sottili funzionali resistenti alle alte temperature e alla corrosione e di film sottili compositi metallici in dispositivi microelettronici.
D2: Quali sono gli effetti specifici del molibdeno nei target in lega sulle proprietà dei film sottili?
R2: Il molibdeno migliora la stabilità termica e la resistenza alla corrosione dei film sottili e ottimizza la struttura cristallina e l’uniformità della superficie.
D3: Per quali processi di sputtering è adatto il target di sputtering in lega di titanio-molibdeno?
A3: Adatto per processi di sputtering con magnetron a corrente continua, sputtering con magnetron a radiofrequenza e deposizione di film sottili compositi multistrato.
Q4: Quali sono i vantaggi applicativi dell’utilizzo di film sottili TiMo?
A4: Il film sottile possiede un’elevata resistenza, un’eccellente adesione e una resistenza alle alte temperature e alla corrosione, che lo rendono adatto per applicazioni funzionali e ingegneristiche.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di controllo delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati in target di sputtering in lega a base di titanio e materiali avanzati per film sottili, ponendo l’accento sulla densità del target, la consistenza della composizione e l’adattabilità del processo. Forniamo soluzioni materiali stabili e affidabili per la deposizione di film sottili in lega di titanio-molibdeno.
Formula molecolare: TiMo
Aspetto: Materiale bersaglio grigio-argento
Densità: Circa 4,5-4,7 g/cm³
Punto di fusione: Circa 3030 °C
Struttura cristallina: Cubica a corpo centrato (BCC)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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