I target di sputtering in lega
di titanio
magnesio
sono composti da titanio e magnesio e combinano la resistenza meccanica del titanio con la leggerezza e l’eccellente conduttività elettrica del magnesio. Questi target sono adatti a vari processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per la preparazione di film sottili di metallo leggero, rivestimenti compositi funzionali e materiali per il trattamento superficiale di dispositivi microelettronici.
Offriamo target di sputtering in lega di titanio-magnesio dalla composizione uniforme e dalla struttura densa, adatti per sistemi di sputtering con magnetrone DC o RF. È possibile fornire dimensioni, forme e metodi di incollaggio
personalizzati per soddisfare sia le esigenze della ricerca che della produzione industriale.
Il design della lega ottimizza le proprietà meccaniche del film e le caratteristiche di leggerezza.
Buona adesione del film e stabilità dell’interfaccia.
Adatto a vari substrati e condizioni di processo PVD.
La composizione stabile del target favorisce l’uniformità del film.
Supporta la sputtering continua e le applicazioni industriali.
Film sottili metallici funzionali leggeri:
adatti per film sottili funzionali leggeri nei settori aerospaziale, automobilistico ed elettronico.
Rivestimenti compositi e modifica delle superfici:
utilizzati per preparare film sottili compositi che combinano resistenza e leggerezza, migliorando le prestazioni e la durata delle superfici.
Dispositivi elettronici e film sottili microstrutturali:
adatto per la deposizione di film sottili ad alta precisione di dispositivi microelettronici e rivestimenti superficiali funzionali.
Ricerca scientifica e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzato nelle università e negli istituti di ricerca per lo studio di film sottili in metallo leggero e parametri di processo.
D1: Per quali tipi di film sottili vengono tipicamente utilizzati i target di sputtering in lega di titanio-magnesio?
Utilizzati principalmente per film sottili in metallo leggero, rivestimenti compositi e deposizione di film sottili funzionali.
D2: Qual è il ruolo principale dell’introduzione del magnesio nelle leghe di titanio-magnesio?
A2: Il magnesio aiuta a ridurre la densità del film, ottenendo una leggerezza che mantiene la conduttività.
Q3: Quali substrati sono adatti per i target di sputtering in lega di titanio-magnesio?
A3: Tipicamente adatti per superfici di substrati in silicio, vetro, metallo e ingegneria.
Q4: Quali sono i vantaggi prestazionali dei film sottili in titanio-magnesio?
A4: I film combinano elevata resistenza meccanica, buona adesione e leggerezza.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati in target di sputtering in lega a base di titanio e materiali avanzati per film sottili, ponendo l’accento sulla densità del target, la consistenza della composizione e l’adattabilità del processo. Forniamo soluzioni materiali stabili e affidabili per la deposizione di film sottili in lega di titanio-magnesio.
Formula molecolare: TiMg
Aspetto: Materiale bersaglio di colore grigio-argento o con lucentezza metallica
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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