Lega di silicio e molibdeno

Target di sputtering in lega di molibdeno e silicio Panoramica

I target di sputtering in lega
di molibdeno e silicio
sono target composti da composti intermetallici costituiti da molibdeno e silicio, che presentano eccellenti proprietà di stabilità termica, elettriche e resistenza all’ossidazione. I film depositati possiedono una buona conduttività, resistenza al calore e adesione, che li rendono ampiamente utilizzati nella produzione di film sottili semiconduttori, materiali resistivi, rivestimenti di strati barriera e componenti optoelettronici. Sono target ad alte prestazioni comunemente utilizzati nei processi avanzati di film sottili.

Offriamo target di sputtering MoSi in vari rapporti di composizione, gradi di purezza e forme. Siamo in grado di fornire dimensioni personalizzate, pressatura a caldo sotto vuoto, densificazione HIP, incollaggio del backplane e altri servizi di lavorazione in base alle esigenze delle attrezzature del cliente. Contattateci
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Caratteristiche principali del prodotto

Alta densità, eccellente uniformità del film
Contenuto di impurità estremamente basso, poche particelle di film Rapporti di composizione e dimensioni
personalizzabili

Proprietà elettriche stabili, adatte per film sottili di precisione
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering a magnetron
Supporta servizi di incollaggio dei target

La superficie può essere lucidata finemente fino a ottenere una finitura a specchio

Applicazioni dei target di sputtering in lega di molibdeno-silicio

Utilizzati per la deposizione di strati barriera e film conduttivi nei dispositivi a semiconduttori.
Utilizzati per la preparazione di rivestimenti funzionali di componenti ottici e film sottili optoelettronici.
Utilizzati come target chiave in film sottili resistivi e materiali termicamente stabili.
Utilizzati in MEMS, sensori e film di imballaggio microelettronici.

Domande frequenti

D1: Quale metodo di imballaggio viene utilizzato per i target MoSi?
R1: Ogni target è sigillato in un sacchetto antipolvere e imballato con schiuma antiurto e una scatola protettiva rigida per prevenire l’umidità o l’abrasione durante il trasporto.

D2: I target possono essere lavorati in dimensioni speciali o utilizzati per l’incollaggio del backplane?
R2: Sì, offriamo servizi di lavorazione CNC, lucidatura superficiale, incollaggio di piastre posteriori in titanio/rame e lavorazione di forme non standard personalizzate per adattarsi alle dimensioni delle cavità di diverse apparecchiature.

D3: Come devono essere conservati correttamente i target di sputtering MoSi?
A3: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto e sigillato. Evitare di toccare la superficie del bersaglio prima dell’uso. Per la conservazione a lungo termine, aggiungere un essiccante e mantenere l’area priva di polvere.

Q4: Come garantite la purezza dei bersagli di sputtering e la qualità del film sottile?
A4: Tutti i bersagli di sputtering utilizzano materie prime di elevata purezza e sono sottoposti a test rigorosi, tra cui ICP, XRF e test di densità. Un rapporto completo sulla qualità può essere incluso nella spedizione.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test effettuati da terzi.

Perché scegliere noi?

Con anni di esperienza nella produzione di target di sputtering in composti intermetallici, disponiamo di attrezzature avanzate per la metallurgia delle polveri, processi di pressatura isostatica a caldo (HIP) e tecnologie di lavorazione di precisione. Questo ci consente di fornire in modo affidabile target di sputtering MoSi ad alta densità e purezza con un basso numero di particelle. Offriamo tempi di consegna rapidi, un rigoroso controllo di qualità, un supporto logistico globale stabile e un team di ingegneri professionisti per garantire ai nostri clienti prestazioni affidabili dei film sottili e una fornitura continua. Che si tratti di ricerca o di produzione su larga scala, siamo un partner affidabile a lungo termine.