I target di sputtering
in rame-germanio
sono target in lega di rame-germanio utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili funzionali e materiali semiconduttori, adatti a processi con requisiti precisi in termini di composizione e prestazioni del film.
Offriamo target di sputtering in CuGe con diversi rapporti rame-germanio e in varie dimensioni, supportando la lavorazione personalizzata e la consulenza tecnica. Contattateci
per soluzioni dettagliate.
Rapporto di composizione rame-germanio controllabile
Densità uniforme del bersaglio
Struttura interna stabile
Elevata uniformità di deposizione del film
Processo di sputtering stabile e affidabile
Adatto per un controllo preciso del processo
Eccellente uniformità dei lotti
Preparazione di film sottili
semiconduttori
: i bersagli CuGe sono utilizzati per depositare film sottili di rame-germanio ad alte prestazioni, soddisfacendo i requisiti di conduttività e uniformità compositiva dei dispositivi semiconduttori. Ricerca sui dispositivi
optoelettronici
e fotovoltaici: nei materiali optoelettronici e nei film sottili fotovoltaici, i film sottili di rame-germanio possono essere regolati per le proprietà elettriche e ottiche, supportando l’ottimizzazione dei dispositivi.
Strato precursore per film sottili compositi multicomponente: i film sottili CuGe possono fungere da base per film sottili compositi o strati funzionali, garantendo l’uniformità e la stabilità dei processi successivi.
Sviluppo del processo e convalida sperimentale: adatto per le fasi di laboratorio e su scala pilota, verifica l’impatto dei diversi parametri di sputtering sulla struttura e sulle prestazioni del film sottile.
D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di sputtering CuGe?
R1: Generalmente adatto per lo sputtering magnetronico, può essere utilizzato anche in specifiche condizioni di sputtering DC. Le soluzioni specifiche dipendono dalle condizioni delle apparecchiature.
D2: Il rapporto rame-germanio influisce in modo significativo sulle prestazioni del film sottile?
R2: L’impatto è significativo. I diversi rapporti dei componenti influenzano direttamente le proprietà elettriche, strutturali e ottiche del film sottile.
D3: Qual è il ruolo della densità del bersaglio nella stabilità dello sputtering?
R3: Una densità più elevata aiuta a ridurre la generazione di particelle e migliora l’uniformità della deposizione del film sottile.
D4: Precauzioni per la conservazione dei bersagli CuGe?
A4: Si consiglia di conservarli in un ambiente sigillato e asciutto, evitando l’umidità e la contaminazione superficiale per garantire le prestazioni di sputtering.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione e nel controllo qualità dei target di sputtering in lega a base di rame. Gestiamo rigorosamente il rapporto di composizione e la struttura interna per garantire l’uniformità e la stabilità della composizione dei target CuGe nella deposizione di film sottili, fornendo un supporto affidabile per la ricerca scientifica e le applicazioni industriali.
Formula chimica: CuGe
Aspetto: Bersaglio di sputtering denso, da grigio argento a grigio metallico
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
