Lega di rame e gallio

Panoramica sui target di sputtering in rame-gallio

I target di sputtering
in rame-gallio
sono target in lega di rame-gallio comunemente utilizzati in applicazioni funzionali di deposizione di film sottili e semiconduttori che richiedono un controllo preciso della composizione.

Offriamo target di sputtering in CuGa in vari rapporti di composizione e dimensioni e supportiamo la lavorazione personalizzata e la comunicazione tecnica. Contattateci
per soluzioni personalizzate.

Caratteristiche principali del prodotto

Rapporto controllabile della lega di rame-gallio
Buona densità del target
Microstruttura uniforme della lega
Processo di sputtering stabile
Elevata uniformità della composizione del film
Adatto per finestre di processo fini
Ripetibilità affidabile dei lotti

Applicazioni dei target di sputtering CuGa

Deposizione di film sottili funzionali
per semiconduttori
: i target CuGa possono essere utilizzati per preparare sistemi di film sottili di metallo o lega con requisiti elevati in termini di rapporti di composizione. Ricerca
nel
campo
dell’optoelettronica
e dei dispositivi correlati: nello sviluppo di materiali e dispositivi optoelettronici, i film sottili di rame-gallio sono spesso utilizzati per controllare le risposte elettriche e ottiche.
Strato precursore per film sottili composti multicomponente: i film sottili in lega CuGa possono fungere da materiale di base per reazioni successive o per la preparazione di film sottili compositi.
Sviluppo del processo e convalida sperimentale: adatto per l’uso in laboratorio e su scala pilota per verificare l’impatto dei diversi parametri di sputtering sulle prestazioni dei film sottili.

Domande frequenti

D1: Esistono requisiti elevati per il controllo della composizione quando si utilizzano target di sputtering CuGa?
R1: Sì, il rapporto rame/gallio influisce direttamente sulla composizione del film, rendendo fondamentale il controllo della composizione del target.

D2: Questo target è adatto per lo sputtering DC o magnetron?
R2: È generalmente adatto per la polverizzazione magnetronica; il metodo specifico deve essere determinato in base alle condizioni delle attrezzature e ai requisiti di processo.

D3: L’uniformità del target influisce sulla consistenza del film?
R3: Sì, una struttura interna uniforme aiuta a ottenere film depositati con una distribuzione compositiva stabile.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante la conservazione dei target CuGa?
R4: Si consiglia di conservarli in contenitori sigillati ed evitare ambienti con elevata umidità per ridurre il rischio di alterazioni della superficie.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione e nel controllo qualità dei target di sputtering in lega e siamo in grado di controllare in modo stabile il rapporto di composizione e la struttura interna dei target CuGa per fornire ai clienti prestazioni di sputtering affidabili e parametri trasparenti.