I target di sputtering in lega
di molibdeno-nichel
sono materiali metallici compositi ad alte prestazioni che combinano l’alto punto di fusione del molibdeno con la resistenza alla corrosione e la resistenza meccanica del nichel. La loro microstruttura uniforme e l’alta densità li rendono eccellenti per la deposizione di film sottili di precisione. Sono ampiamente utilizzati nei dispositivi microelettronici, nei film sottili elettrocatalitici, nei rivestimenti resistenti all’usura e alla corrosione e nei dispositivi a nuova energia, fornendo una base materiale affidabile per la ricerca scientifica e la produzione industriale.
Offriamo target di sputtering in lega di molibdeno-nichel in vari rapporti di composizione, dimensioni e forme e supportiamo la lavorazione personalizzata per soddisfare le esigenze dei clienti. Contattateci.
Elevata purezza
Distribuzione uniforme della composizione
Eccellente resistenza meccanica
Buona resistenza alla corrosione e alle alte temperature
Alta densità, deposizione uniforme
Dimensioni e forme personalizzate disponibili
Dispositivi microelettronici: per la deposizione di film sottili conduttivi o funzionali ad alte prestazioni.
Film sottili elettrocatalitici: migliorano l’attività catalitica e la durata.
Rivestimenti resistenti all’usura e alla corrosione: per la protezione delle superfici di utensili o parti di macchine.
Dispositivi a nuova energia: utilizzati nella deposizione di film sottili per celle a combustibile o dispositivi di accumulo di energia.
D1: Quali sono le opzioni di imballaggio per i target di sputtering MoNi?
R1: Sono disponibili imballaggi sottovuoto o scatole personalizzate a prova di umidità per garantire un trasporto sicuro.
D2: Il prodotto può essere lavorato o personalizzato?
R2: Sì, supportiamo il taglio, la foratura, la regolazione dello spessore e la personalizzazione della forma per soddisfare le esigenze di diverse attrezzature.
D3: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei target di sputtering MoNi?
R3: Conservare in un luogo asciutto e fresco, evitando ambienti umidi, acidi, alcalini o ad alta temperatura per mantenere le prestazioni del target di sputtering.
D4: Come vengono garantite la purezza e le prestazioni del prodotto?
R4: Ogni lotto di prodotti viene sottoposto a rigorose analisi dei componenti e test delle proprietà fisiche per garantire un’elevata purezza, una composizione uniforme e eccellenti prestazioni di deposizione.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti.
Vasta esperienza professionale: anni di esperienza nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target di sputtering MoNi, con una tecnologia matura e affidabile.
Rigoroso controllo di qualità: elevata purezza e alta densità; ogni lotto di prodotti supera rigorosi test.
Forti capacità di personalizzazione: è possibile personalizzare
la composizione, le dimensioni, lo spessore e la forma.
Assistenza tecnica completa: forniamo servizi end-to-end dalla selezione dei campioni alle soluzioni di applicazione della deposizione.
Sceglieteci per i target di sputtering MoNi ad alte prestazioni e l’assistenza tecnica
completa per i vostri progetti di ricerca e industriali.
Formula chimica: MoNi
Aspetto: Disco metallico grigio-argento o bersaglio rettangolare
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
