I target di sputtering
in lega di titanio-nichel
combinano l’elevata resistenza del titanio con la resistenza alla corrosione e la duttilità del nichel. Questi target sono ampiamente utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per preparare film sottili di metallo funzionali, rivestimenti resistenti alla corrosione e materiali di modifica superficiale per dispositivi microelettronici.
Offriamo target per sputtering in Ti-Ni ad alta purezza, densi e di composizione uniforme, adatti per sistemi di sputtering con magnetron DC o RF. È possibile fornire dimensioni, forme e metodi di incollaggio personalizzati per soddisfare sia le esigenze di ricerca che quelle di produzione industriale.
Il design della lega migliora la resistenza alla corrosione e le proprietà meccaniche del film.
Il target denso e uniforme garantisce una deposizione stabile del film.
Eccellente adesione del film e proprietà interfacciali.
Applicabile a vari substrati e condizioni di processo PVD.
Supporta lo sputtering continuo e le applicazioni industriali.
Film sottili funzionali resistenti alla corrosione:
utilizzati per film sottili funzionali resistenti alla corrosione e all’usura e rivestimenti superficiali.
Film sottili per dispositivi elettronici e microstrutture:
adatti per la deposizione di film sottili ad alta precisione di dispositivi microelettronici e rivestimenti superficiali funzionali.
Ricerca e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzato in università, istituti di ricerca e laboratori per la ricerca su film sottili metallici funzionali e processi PVD.
D1: Per quali processi di deposizione di film sottili è adatto il bersaglio di sputtering in lega di titanio-nichel?
R1: Può essere utilizzato per processi di sputtering con magnetron a corrente continua, sputtering con magnetron a radiofrequenza e deposizione di film sottili compositi multistrato.
D2: Qual è il ruolo del nichel nella lega?
R2: Il nichel migliora la resistenza alla corrosione e la duttilità del film sottile, rendendolo più adatto per rivestimenti funzionali e applicazioni industriali.
D3: Come scegliere la dimensione e la forma appropriate del bersaglio di sputtering in lega di titanio-nichel?
R3: La dimensione e la forma del bersaglio vengono selezionate in base al modello dell’apparecchiatura di sputtering, alle dimensioni del substrato e ai requisiti di deposizione. Sono disponibili servizi di personalizzazione.
Q4: Quali sono le precauzioni da prendere per lo stoccaggio e il trasporto dei target di sputtering TiNi?
A4: Tenere all’asciutto, evitare l’umidità e i danni meccanici e prevenire la contaminazione della superficie e la rottura.
Ogni lotto è fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati in target di sputtering a base di titanio e leghe, fornendo target di sputtering TiNi ad alta purezza e composizione uniforme e soluzioni personalizzate per garantire la qualità dei film sottili e la stabilità del processo per applicazioni di ricerca e industriali.
Formula molecolare: TiNi
Aspetto: Materiale bersaglio grigio-argento
Densità: Circa 6,45 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1315 °C
Struttura cristallina: Cubica (FCC)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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