Lega di nichel e cromo

Target di sputtering in lega di nichel-cromo Panoramica

I target di sputtering
in lega di nichel-cromo
sono materiali in lega di nichel-cromo ad alta purezza adatti alla deposizione di film sottili funzionali e alla fabbricazione di dispositivi elettronici.

Offriamo target di sputtering NiCr in varie dimensioni, spessori e strutture e supportiamo l’abbinamento delle apparecchiature e l’ottimizzazione dei processi. Contattateci
per soluzioni personalizzate e informazioni tecniche
.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza e stabilità
Eccellente densità del bersaglio
Buona uniformità del film
Prestazioni di scarica stabili
Compatibile con vari sistemi di sputtering
Backplane e incollaggio personalizzabili
Elevata uniformità dei lotti

Applicazioni dei bersagli per sputtering in lega di nichel-cromo

Deposizione di film sottili per dispositivi elettronici: i bersagli NiCr possono essere utilizzati per la preparazione di film sottili conduttivi e funzionali, garantendo l’uniformità del film e prestazioni stabili dei dispositivi elettronici.
Film sottili resistenti alle alte temperature e alla corrosione: adatti per la deposizione di film sottili resistenti alle alte temperature o alla corrosione, migliorano la durata e la stabilità del film.
Strati funzionali in materiali compositi: gli strati funzionali possono essere depositati in materiali compositi multistrato, migliorando la conduttività, il magnetismo e la stabilità termica.
Ricerca scientifica e sviluppo di processi: i target NiCr sono adatti per esperimenti di processo con film sottili e ricerca e sviluppo di nuovi materiali, garantendo risultati di deposizione ripetibili.

Domande frequenti

D1: Quali sono le principali applicazioni dei target di sputtering NiCr?
R1: Comunemente utilizzati in film sottili per dispositivi elettronici, film sottili resistenti alla corrosione ad alta temperatura, strati funzionali di materiali compositi ed esperimenti di ricerca scientifica.

D2: I target NiCr sono compatibili con diverse apparecchiature di sputtering?
R2: Sì, offriamo varie dimensioni e strutture compatibili con i principali sistemi di sputtering.

D3: I target sono soggetti a problemi durante la sputtering?
R3: I target ad alta densità garantiscono la stabilità di scarica e riducono la deposizione irregolare o la perdita del target.

D4: Come devono essere conservati i target di sputtering NiCr?
R4: Si consiglia di conservarli in un contenitore asciutto e sigillato, evitando urti o umidità per mantenere la stabilità delle prestazioni del target.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo una vasta esperienza nella fornitura di target di sputtering funzionali, fornendo target NiCr ad alta densità e purezza e servizi personalizzati
, integrati da un supporto tecnico
completo, per aiutare i clienti a ottenere risultati di deposizione stabili ed efficienti nei dispositivi elettronici e nelle applicazioni funzionali a film sottile.