I target di sputtering in lega di manganese e cobalto sono target in metallo o lega ad alta purezza realizzati in manganese (Mn) e cobalto (Co), progettati specificamente per la formazione di film sottili uniformi nei sistemi di deposizione fisica da vapore (PVD). Questi target in lega svolgono un ruolo cruciale nella fabbricazione di materiali elettronici, magnetici e film sottili funzionali avanzati e possono essere utilizzati in dispositivi a semiconduttori, memorie magnetiche e altri processi di stratificazione di film di precisione.
Offriamo target in lega di manganese e cobalto in vari rapporti di composizione e dimensioni e possiamo personalizzarli per soddisfare le vostre esigenze di processo. Contattateci
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Materiale di elevata purezza
Lega uniforme e densa
Adatto per sputtering DC e RF Forma e
dimensioni personalizzabili
Eccellente stabilità termica
Elevata uniformità del film
Adatto per sistemi di stratificazione complessi
Fornitura stabile in lotti.
Fabbricazione di film sottili
per semiconduttori
: i target MnCo sono utilizzati nei sistemi di sputtering magnetronico per depositare film sottili di metallo o lega, fornendo una base materiale stabile per interconnessioni di circuiti integrati, elettrodi e strati funzionali.
Dispositivi di archiviazione magnetica: questo bersaglio in lega può essere utilizzato per fabbricare componenti magnetici a film sottile, migliorando le prestazioni di risposta magnetica e la stabilità dei supporti di archiviazione dati, rendendolo un materiale importante nel settore dell’archiviazione magnetica.
Sensori e dispositivi microelettronici: nella produzione di componenti microelettronici come sensori e MEMS, i film funzionali depositati utilizzando bersagli MnCo possono ottimizzare la sensibilità e le prestazioni elettriche dei dispositivi.
Film sottili funzionali avanzati e dispositivi optoelettronici: utilizzati per preparare materiali a film sottile con speciali funzioni elettriche, magnetiche o chimiche, adatti per applicazioni a film sottile nei campi dei display, dell’optoelettronica e delle nuove energie.
D1: Quali sono le combinazioni di composizione tipiche dei target di sputtering MnCo?
A1: I target MnCo sono tipicamente un sistema di leghe di manganese e cobalto. Il rapporto tra i due metalli e la composizione del target possono essere regolati in base ai requisiti specifici del film sottile.
D2: Per quali processi di sputtering è adatto questo target?
R2: È compatibile con le apparecchiature di sputtering magnetron DC e RF ed è adatto a vari processi di deposizione PVD sputtering.
D3: È possibile personalizzare le dimensioni e la forma del target?
R3: Sì, i target possono essere personalizzati in dimensioni rotonde, quadrate o specifiche per soddisfare le esigenze di diverse apparecchiature e processi.
D4: In che modo la purezza dei target in lega influisce sulle prestazioni di deposizione del film?
R4: I target ad alta purezza possono ridurre il contenuto di impurità nel film, migliorare le proprietà elettriche e magnetiche del film e aumentare l’uniformità del prodotto.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Possediamo capacità mature di sviluppo e lavorazione dei target, controlliamo rigorosamente la purezza dei materiali e l’uniformità strutturale e siamo in grado di personalizzare le specifiche in base alle esigenze delle apparecchiature dei clienti. Forniamo assistenza tecnica
professionale e servizi di fornitura rapida, offrendo ai clienti una base materiale affidabile nel campo della deposizione di film sottili.
Formula molecolare: MnCo
Aspetto: Grigio-argento
Densità: 8,0 g/cm³
Struttura cristallina: Cubica a facce centrate (FCC)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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