Lega di cobalto, tantalio e zirconio

Panoramica dei bersagli di sputtering in lega di cobalto-tantalio-zirconio

I bersagli di sputtering
in lega di cobalto-tantalio-zirconio
sono bersagli in lega di cobalto-tantalio-zirconio ad alte prestazioni con eccellente resistenza alla corrosione e stabilità termica, ampiamente utilizzati nei film sottili magnetici, negli strati conduttivi ad alta temperatura e nella deposizione di dispositivi microelettronici.

Offriamo target
in lega CoTaZr
in varie dimensioni, purezze e forme cristalline e forniamo assistenza per i test sui campioni e la consulenza tecnica. Contattateci
per informazioni dettagliate e soluzioni di processo.

Caratteristiche principali del prodotto

Eccellente resistenza alla corrosione

Buona stabilità termica

Conduttività affidabile

Adatto a vari processi di sputtering

Dimensioni e forma cristallina personalizzabili

Incollaggio e backplane personalizzabili

Rigoroso controllo della uniformità dei lotti

Ciclo di consegna flessibile

Supporta esperimenti di ricerca scientifica e verifica dei processi

Applicazioni dei target di sputtering in lega di cobalto-tantalio-zirconio

Preparazione di film magnetici sottili:
i target di sputtering in lega di cobalto-tantalio-zirconio sono adatti per la deposizione di film magnetici sottili, garantendo film densi e uniformi e migliorando la stabilità delle proprietà magnetiche.

Deposizione di dispositivi microelettronici:
utilizzati per la deposizione di strati di metallizzazione in dispositivi microelettronici, migliorano la conduttività e la stabilità termica dei dispositivi.

Strato conduttivo ad alta temperatura:
i film sottili conduttivi possono essere depositati ad alte temperature, mostrando un’eccellente stabilità termica e resistenza alla corrosione.

Ricerca scientifica e sviluppo dei materiali:
ampiamente utilizzati negli istituti di ricerca e nei dipartimenti di ricerca e sviluppo aziendali per i test sulle prestazioni dei materiali e l’ottimizzazione dei parametri di processo.

Domande frequenti

D1: Quali processi di sputtering sono adatti per i target di sputtering in lega di cobalto-tantalio-zirconio?
A1: Adatto a vari processi di deposizione di film sottili come sputtering magnetronico, sputtering RF e sputtering DC.

D2: La forma cristallina del target può essere personalizzata?
A2: Sì, è possibile fornire diverse forme cristalline dei target in base alle esigenze del cliente per soddisfare i requisiti di prestazione.

D3: I target sono soggetti a crepe durante l’uso?
A3: Preparati utilizzando un processo metallurgico ad alta densità, i grani sono uniformi, riducendo efficacemente il rischio di crepe e porosità.

Q4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio del bersaglio?
A4: Si raccomanda di conservare il bersaglio in un ambiente sigillato, asciutto e ventilato, evitando l’umidità e la contaminazione per mantenere la stabilità delle prestazioni del bersaglio.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:

Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)

Rapporto di ispezione delle dimensioni

Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e nella fornitura stabile di bersagli di sputtering
in lega di cobalto-tantalio-zirconio ad alta purezza
. Grazie a un sistema di gestione della qualità completo e a capacità di personalizzazione flessibili, siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alle applicazioni industriali, contribuendo al progresso efficiente dei progetti.