Lega di alluminio al neodimio

Panoramica della lega di alluminio e neodimio

I target in lega di alluminio e neodimio I target sputtering in lega di alluminio e neodimio sono materiali ad alte prestazioni progettati per applicazioni che richiedono un’eccellente stabilità termica, proprietà magnetiche e ottiche migliorate e una migliore adesione del film. Offriamo composizioni e dimensioni personalizzabili per soddisfare esigenze specifiche, oltre a un’assistenza post-vendita completa: non esitate a contattarci per qualsiasi domanda.

I nostri target di sputtering AlNd sono prodotti da materie prime di elevata purezza utilizzando tecniche di fusione e colata di precisione per garantire una composizione uniforme e una microstruttura densa. Sono disponibili in composizioni standard come Al-1wt%Nd, Al-3wt%Nd e Al-5wt%Nd, con formulazioni personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Caratteristiche principali dei prodotti

Purezza: ≥99,9%
Rapporti Al/Nd standard e personalizzati (ad esempio, 1%, 3%, 5%)
Eccellente conduttività termica e stabilità
Microstruttura uniforme e alta densità
Migliori proprietà magnetiche e ottiche
Migliore resistenza all’ossidazione
Adesione superiore e deposizione uniforme del film sottile
Adatto ai sistemi di sputtering ad alto vuoto

Applicazioni dei target di sputtering AlNd

Optoelettronica: Film trasparenti di ossido conduttivo, elettrodi OLED
Memorizzazione magnetica: Film sottili per sensori magnetici e dispositivi di memoria
Rivestimenti antiriflesso: Maggiore durata e chiarezza ottica
Elettronica a film sottile: Film di alta qualità con adesione e uniformità migliorate
Aerospaziale e difesa: Rivestimenti funzionali con stabilità termica e magnetica

Rapporti

Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Supporto per test di terze parti disponibile su richiesta