ULPMAT

Ittrio metallico

Chemical Name:
Ittrio metallico
Formula:
Y
Product No.:
3900
CAS No.:
7440-65-5
EINECS No.:
231-174-8
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
3900ST001 Y 99.9 % Y/TREM Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
3900ST002 Y 99.9 % Y/TREM 300 mm x 100 mm x 8mm Inquire
3900ST003 Y 99.9 % Y/TREM 345 mm x 145 mm x 8mm Inquire
3900ST004 Y 99.9 % Y/TREM Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
3900ST005 Y 99.999% Y/TREM Ø 203.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
3900ST001
Formula
Y
Purity
99.9 % Y/TREM
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
3900ST002
Formula
Y
Purity
99.9 % Y/TREM
Dimension
300 mm x 100 mm x 8mm
Product ID
3900ST003
Formula
Y
Purity
99.9 % Y/TREM
Dimension
345 mm x 145 mm x 8mm
Product ID
3900ST004
Formula
Y
Purity
99.9 % Y/TREM
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
3900ST005
Formula
Y
Purity
99.999% Y/TREM
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm

Target di sputtering in metallo ittrio Panoramica

I target di sputtering
in metallo ittrio
sono target in metallo delle terre rare ad alta purezza ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili, nella produzione di dispositivi elettronici e nei rivestimenti ottici
.

Offriamo target di sputtering in metallo ittrio in varie dimensioni, purezze e morfologie adatti a un’ampia gamma di applicazioni di rivestimento mediante sputtering. Grazie a un rigoroso controllo di qualità, garantiamo la stabilità e l’uniformità di ogni lotto, fornendo soluzioni che vanno dalla produzione di piccoli lotti in laboratorio alla produzione industriale su larga scala. Non esitate a contattarci
se avete esigenze di personalizzazione
o desiderate un preventivo.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, a garanzia della qualità del film
Eccellente stabilità di sputtering
Ampia applicabilità
Dimensioni e morfologie personalizzabili
Eccellente stabilità termica e resistenza alla corrosione
Controllo preciso della composizione chimica
Fornitura stabile e affidabile a lungo termine

Applicazioni dei target di sputtering in metallo ittrio

Deposizione di film sottili: utilizzati per la produzione di film sottili elettronici di alta qualità, film sottili optoelettronici, ecc. Rivestimento
ottico
: ampiamente utilizzato nella preparazione di rivestimenti per celle solari, lenti ottiche e display. Produzione
di semiconduttori
: utilizzato per la preparazione di film sottili per dispositivi a semiconduttori ad alte prestazioni.
Materiali magnetici: utilizzati per la produzione di film sottili funzionali e materiali magnetici permanenti.

Domande frequenti

D1: Il bersaglio di sputtering in metallo ittrio offre servizi di personalizzazione?
R1: Sì, supportiamo la personalizzazione delle dimensioni, della purezza, della forma e del tipo di piastra di supporto del bersaglio di sputtering in metallo ittrio in base alle esigenze del cliente per soddisfare i requisiti dei diversi processi di rivestimento.

D2: Come vengono confezionati i bersagli di sputtering in metallo ittrio?
A2: Utilizziamo materiali di imballaggio professionali resistenti all’umidità e agli urti per garantire la sicurezza e l’integrità del prodotto durante il trasporto, evitando umidità o danni.

D3: Come viene garantita la qualità della superficie del bersaglio di sputtering?
A3: Effettuiamo rigorosi controlli di qualità su ogni lotto di bersagli, compreso il rilevamento dei difetti superficiali e il controllo della tolleranza dimensionale, per garantire che ogni prodotto soddisfi i requisiti del cliente e abbia prestazioni di sputtering stabili.

D4: Come devono essere conservati i target di sputtering in metallo ittrio?
A4: Si consiglia di conservare il target in un ambiente asciutto e fresco, evitando l’umidità e le temperature estreme per mantenerne la stabilità e le prestazioni.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella fornitura di target di sputtering in metallo ittrio ad alta purezza e ad alte prestazioni, impegnati a fornire soluzioni personalizzate per i nostri clienti. Grazie a processi di produzione sofisticati e a un rigoroso controllo di qualità, garantiamo la stabilità e l’efficienza dei nostri prodotti in applicazioni di fascia alta, rendendoci il vostro partner affidabile.

Formula chimica: Y
Peso molecolare: 88,90584 g/mol
Aspetto: Bersaglio di sputtering metallico bianco-argento
Densità: 4,47 g/cm³
Punto di fusione: 1526 °C
Punto di ebollizione: 3338 °C
Struttura cristallina: Esagonale a struttura stretta (HCP)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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