Fosfato di litio e manganese

Target per sputtering al litio manganese fosfato Panoramica

I target per sputtering
al litio manganese fosfato
sono target di materiale catodico per batterie agli ioni di litio ad alta purezza utilizzati per la preparazione di film sottili e per esperimenti di ricerca scientifica. Consentono una deposizione uniforme di film sottili e sono ampiamente utilizzati nella ricerca sulle batterie di potenza, nelle batterie allo stato solido e nei rivestimenti funzionali.

Siamo in grado di fornire target di sputtering al litio manganese fosfato ad alta densità e uniformità; le dimensioni e gli spessori possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente. Contattateci
per richiedere campioni o soluzioni personalizzate!

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, basse impurità
Elevata densità e resistenza meccanica
Struttura cristallina stabile, eccellente uniformità del film sottile
Dimensioni, forma e spessore personalizzabili
Supporta la ricerca scientifica e le applicazioni industriali
Assistenza tecnica rapida

Applicazioni dei target di sputtering al litio manganese fosfato

Ricerca sulle batterie di potenza:
utilizzati per preparare materiali catodici a film sottile LMP per lo sviluppo di batterie ad alte prestazioni.
Batterie allo stato solido:
supportano la deposizione di film sottili per batterie allo stato solido, garantendo l’uniformità dell’interfaccia e la conduttività ionica.
Rivestimenti funzionali:
possono essere utilizzati per la preparazione di film sottili ad alta precisione in optoelettronica, microelettronica e altri campi.

Domande frequenti

D1: Quali processi di deposizione sono adatti per i target di sputtering al litio manganese fosfato?
A1: Adatto per i processi PVD convenzionali come lo sputtering magnetronico e l’evaporazione con fascio di elettroni.

D2: È possibile personalizzare le dimensioni e lo spessore del target?
A2: Sì, sono disponibili varie specifiche in base alle esigenze delle apparecchiature del cliente.

D3: Qual è l’uniformità del film sputterizzato?
A3: La densità del target e la struttura cristallina ottimizzata consentono una deposizione del film altamente uniforme.

D4: Quali sono i requisiti di controllo della purezza e delle impurità per il target?
A4: Purezza fino al 99,9%, con un controllo rigoroso delle impurità metalliche e del contenuto di ossigeno.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Disponiamo di attrezzature professionali per la produzione di target e di un team tecnico, e siamo in grado di fornire target di sputtering LMP personalizzati e di alta qualità per garantire risultati di deposizione di film sottili stabili ed efficienti nella ricerca scientifica e nelle applicazioni industriali.