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Fluoruro di itterbio

Chemical Name:
Fluoruro di itterbio
Formula:
YbF3
Product No.:
700900
CAS No.:
13760-80-0
EINECS No.:
237-354-2
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
700900ST001 YbF3 99.99% (REO) Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
700900ST001
Formula
YbF3
Purity
99.99% (REO)
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm

Panoramica dei target di sputtering al fluoruro di itterbio

Il target sputtering al fluoruro di itterbio è un materiale al fluoruro di terre rare ad alte prestazioni, appositamente progettato per i processi di deposizione di film sottili. Con una purezza fino al 99,99%, una densità uniforme e densa, assicura una formazione uniforme del film, una forte adesione e un contenuto di impurità estremamente basso, fornendo una solida garanzia per la preparazione di materiali optoelettronici e funzionali di alto livello.

Forniamo target di sputtering al fluoruro di itterbio di varie specifiche e dimensioni, supportando la personalizzazione circolare e rettangolare per soddisfare i diversi requisiti di processo. Il nostro target di sputtering al fluoruro di itterbio di elevata purezza è ideale per la deposizione di film sottili avanzati e per le applicazioni optoelettroniche. Il team di assistenza post-vendita è sempre disponibile a rispondere alle vostre domande tecniche e a garantire che possiate utilizzarlo senza preoccupazioni.

Punti salienti del prodotto Bersaglio sputtering al fluoruro di itterbio

La purezza è pari al 99,99% e soddisfa le esigenze della ricerca scientifica e dei film sottili di livello industriale
La struttura densa e ad alta densità assicura una deposizione uniforme e un’eccellente adesione dei film sottili
Supporta la personalizzazione di più dimensioni e forme, adatte a diverse apparecchiature di sputtering
Eccellente stabilità termica e chimica, adatta a una varietà di processi di sputtering sotto vuoto

Applicazioni del target di sputtering al fluoruro di itterbio

Semiconduttori:Bersaglio per sputtering al fluoruro di itterbio utilizzato per la preparazione di film sottili funzionali per dispositivi elettronici ad alte prestazioni per migliorare la stabilità e le prestazioni del dispositivo.
Rivestimenti ottici: utilizzati per produrre film antiriflesso ad alto indice di rifrazione e a basso assorbimento e rivestimenti per finestre a infrarossi.
Materiali laser: Fonti di film sottili di materiali di drogaggio laser per laser nel vicino infrarosso e dispositivi di comunicazione ottica.
Dispositivi optoelettronici: Preparazione di strati di film sottili con speciali proprietà ottiche ed elettriche per nuovi campi di visualizzazione e sensori.

Rapporti

Forniamo certificati di analisi (COA), schede di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti per ogni lotto di prodotti. Inoltre, supportiamo anche test di terze parti per una maggiore garanzia di qualità.

Formula molecolare: YbF₃
Peso molecolare: 123 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico bianco e denso con superficie liscia
Densità: Circa 7,1 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 1.230°C
Conduttività: Isolante elettrico (alta resistenza)
Struttura cristallina: Ortorombica
Stabilità chimica: Stabile in aria secca e in atmosfere inerti, bassa igroscopicità.

Parola segnale:
Pericolo
Indicazioni di pericolo:
H302+H312: Nocivo se ingerito o a contatto con la pelle
H331: Tossico se inalato
H335: Può causare irritazione respiratoria
H315: Provoca irritazione cutanea
H319: provoca grave irritazione agli occhi

Imballaggio interno: Sacchetto sigillato sottovuoto per proteggere dalla contaminazione e dall’umidità.

Imballaggio esterno: Cartone o scatola di legno, a seconda delle dimensioni e del peso.

Obiettivi fragili: Viene utilizzato uno speciale imballaggio protettivo per garantire un trasporto sicuro.

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