Il fluoruro di indio (InF3) è un materiale al fluoruro di elevata purezza utilizzato per la deposizione efficiente di film sottili. Trova ampia applicazione nei settori dei semiconduttori, dell’optoelettronica e dei film sottili. Questo target di fluoruro di indio presenta eccellenti proprietà di sputtering, consentendo la deposizione di film sottili di fluoruro di indio uniformi e densi. Svolge un ruolo fondamentale in applicazioni come la tecnologia dei display, le comunicazioni in fibra ottica e i dispositivi elettronici che richiedono rivestimenti ad alte prestazioni.
Alta efficienza di sputtering: Il target di sputtering al fluoruro di indio (InF3) ha eccellenti proprietà di sputtering, che consentono la deposizione di film uniformi e densi. È ideale per le applicazioni di film sottili di fluoruro di indio nella produzione di alta precisione.
Garanzia di elevata purezza: Il nostro target di fluoruro di indio è prodotto con materiale puro al 99,99%, garantendo un’eccellente qualità del film sottile, difetti minimi e un’elevata coerenza nell’applicazione.
Versatilità in tutti i settori: Il target di sputtering InF3 può essere utilizzato in diversi settori, tra cui l’optoelettronica, la tecnologia dei semiconduttori, la comunicazione in fibra ottica e la tecnologia dei display.
Opzioni di personalizzazione: Offriamo la possibilità di personalizzare la dimensione delle particelle, la purezza e il metodo di sputtering, consentendo di adattare il target di fluoruro di indio ad applicazioni specifiche.
Stabilità a lungo termine: Questo target di sputtering al fluoruro di indio garantisce la stabilità delle prestazioni a lungo termine nelle applicazioni high-tech, rendendolo ideale per i dispositivi optoelettronici e i semiconduttori avanzati.
Applicazioni del target sputtering: Il target di sputtering al fluoruro di indio (InF3) è utilizzato principalmente nei processi di deposizione di film sottili, ad esempio nella produzione di film sottili di fluoruro di indio per display, sensori e sistemi di comunicazione a fibra ottica. Il target garantisce una deposizione di film uniforme e di alta qualità con eccellenti proprietà ottiche ed elettriche.
Semiconduttori Produzione di dispositivi: I target di sputtering InF3 sono utilizzati nella produzione di semiconduttori per la deposizione di film di fluoruro di indio ad alte prestazioni, adatti ai componenti elettronici che richiedono rivestimenti al fluoro.
Dispositivi optoelettronici: Questo target di sputtering al fluoruro di indio è fondamentale per la fabbricazione di dispositivi optoelettronici come LED, diodi laser, fotorivelatori e modulatori, soprattutto nelle gamme di luce UV e visibile.
Ottica Comunicazione in fibra: I target di sputtering al fluoruro di indio sono utilizzati nei sistemi di comunicazione a fibra ottica per la modulazione ottica e la conversione fotoelettrica, consentendo la trasmissione di dati ad alta velocità.
Rivestimenti di alta precisione: Questo target InF3 viene utilizzato nei rivestimenti ad alta efficienza per display, sensori e dispositivi ottici high-tech, fornendo strati protettivi e funzionali per varie applicazioni industriali.
Garanzia di elevata purezza: Forniamo target di sputtering di fluoruro di indio di elevata purezza al 99,99%, garantendo una deposizione di film sottile di alta qualità e costante e prestazioni eccellenti dei materiali.
Servizi di personalizzazione: Offriamo soluzioni su misura per diverse applicazioni di target di sputtering al fluoruro di indio, con dimensioni delle particelle, livelli di purezza e metodi di sputtering personalizzabili per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.
Consegna efficiente: Garantiamo consegne tempestive e supportiamo gli ordini urgenti, assicurando ai clienti il rispetto dei loro programmi di produzione.
Supporto tecnico esperto: Il nostro supporto tecnico
Ogni lotto di prodotti viene fornito con un certificato di analisi (COA), una scheda tecnica (TDS), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e un rapporto di identificazione della spedizione. Su richiesta, sono disponibili anche rapporti di test di terze parti.
Formula chimica: InF₃
Peso molecolare: 209,8 g/mol
Purezza: 99,9% (personalizzabile)
Aspetto: Polvere o bersaglio di colore da bianco a biancastro
Densità: ~6,3 g/cm³
Punto di fusione: ~ 730°C
Punto di ebollizione: Sublima a ~ 1300°C
Struttura cristallina: Cubica (tipo NaCl)
Metodo di sputtering: Sputtering DC (personalizzabile)
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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