I target di sputtering
in ferrite di stronzio
sono materiali magnetici ad alte prestazioni utilizzati per la fabbricazione di dispositivi magnetici a film sottile e componenti elettronici.
Offriamo target di sputtering in ferrite di stronzio ad alta densità e uniformità, adatti per la deposizione di film sottili magnetici, sensori ed esperimenti di ricerca scientifica. Le dimensioni e le forme possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze dei clienti, garantendo l’uniformità dello sputtering e le prestazioni del film. Contattateci
per richiedere dei campioni.
Elevata stabilità magnetica
Eccellente stabilità termica
Alta densità e struttura uniforme
Dimensioni e forme personalizzate
Facile sputtering e deposizione del film
Elevata purezza, basse impurità
Stabilità di conservazione a lungo termine
Bonding del target opzionale
Adatto a varie applicazioni elettroniche e magnetiche
Utilizzati per la fabbricazione di film magnetici sottili per migliorare le prestazioni dei dispositivi.
Adatti per sensori magnetici e dispositivi di memorizzazione magnetica.
Utilizzati per la fabbricazione di film magnetici funzionali in esperimenti di ricerca scientifica.
Applicazioni nella funzionalizzazione superficiale di dispositivi elettronici magnetici.
D1: Quali processi di sputtering sono adatti per questo target di sputtering?
R1: Questo prodotto è adatto sia per lo sputtering DC che RF, producendo un’eccellente uniformità del film.
D2: È possibile personalizzare lo spessore o il diametro?
R2: Siamo in grado di fornire diversi diametri, spessori e forme per soddisfare le esigenze di varie apparecchiature.
D3: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio?
R3: Si consiglia di conservarlo in un contenitore sigillato in un ambiente asciutto, evitando l’umidità e l’esposizione prolungata alla luce.
D4: Come viene garantita la purezza del materiale del target?
A4: Utilizziamo materie prime di elevata purezza e controlliamo rigorosamente il processo di produzione e il contenuto di impurità per garantire elevati standard di purezza.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Possediamo una tecnologia avanzata di preparazione dei target di sputtering e un rigoroso sistema di gestione della qualità, che garantisce un’elevata densità dei target, una struttura uniforme e stabilità magnetica. In combinazione con una personalizzazione flessibile e servizi tecnici professionali, forniamo ai clienti soluzioni affidabili e ad alte prestazioni per target di sputtering magnetico, a supporto della corretta implementazione della ricerca scientifica e delle applicazioni industriali.
Formula chimica: SrFe₁₂O₁₉
Peso molecolare: 1.596,0 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico da marrone scuro a nero per sputtering
Densità: ~5,1 g/cm³
Struttura cristallina: Esagonale (tipo magnetoplumbite)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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