Ferrite di ittrio (ossido di ittrio e ferro) (YIG)

Target di sputtering in ossido di ittrio e ferro Panoramica

I target di sputtering
in ossido di ittrio e ferro
sono target in granato di ittrio e ferro ad alta purezza ampiamente utilizzati nella fabbricazione di film sottili magnetici, dispositivi a microonde e materiali optoelettronici.

Offriamo target di sputtering Y3Fe5O12 in varie dimensioni e gradi di purezza, con forme e specifiche personalizzabili per soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili. Contattateci
per informazioni dettagliate.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, basse impurità
Struttura uniforme e densa, sputtering stabile
Eccellenti proprietà magnetiche
Elevata stabilità termica
Controllo preciso della composizione chimica
Dimensioni e forme personalizzabili
Backplane e metodi di incollaggio selezionabili
Fornitura a lungo termine, qualità affidabile

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di ittrio e ferro

Film magnetici sottili: utilizzati per la produzione di dispositivi a film magnetico sottile ad alte prestazioni, migliorano la risposta magnetica.
Dispositivi a microonde: utilizzati nei filtri a microonde e nei controllori di fase per migliorare la stabilità del segnale. Dispositivi
optoelettronici
: utilizzati per la deposizione di materiali in isolatori ottici, laser e altri dispositivi.
Ceramiche elettroniche: utilizzate nei componenti elettronici ad alta frequenza per migliorare le proprietà magnetiche e la stabilità.

Domande frequenti

D1: Qual è la purezza del bersaglio di sputtering Y3Fe5O12?
A1: La purezza del nostro target può raggiungere oltre il 99,9%, garantendo prestazioni stabili durante la deposizione per sputtering.

D2: I target per sputtering Y3Fe5O12 possono essere lavorati in forme diverse?
A2: Sì, supportiamo target rotondi, quadrati e di dimensioni personalizzate per soddisfare le esigenze di diverse apparecchiature.

D3: Qual è la prestazione di sputtering del target?
R3: Il target è denso e uniforme con basse impurità, mostrando velocità di sputtering stabili e un’eccellente qualità del film.

D4: Quali sono i requisiti di conservazione per i target Y3Fe5O12?
R4: Dovrebbe essere conservato in un ambiente asciutto e fresco, evitando temperature elevate, umidità o urti per mantenere l’integrità e la stabilità delle prestazioni del target.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target di sputtering Y3Fe5O12 ad alta purezza, con una rigorosa gestione della qualità, servizi personalizzati e prestazioni dei target stabili e affidabili garantite per soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili.