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Cromo Molibdeno Tantalio Titanio Vanadio Lega di tungsteno

Chemical Name:
Cromo Molibdeno Tantalio Titanio Vanadio Lega di tungsteno
Formula:
CrMoTaTiVW
Product No.:
24427322237400
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
24427322237400ST001 CrMoTaTiVW 99% Ø 12.7 mm x 114.3 mm Inquire
Product ID
24427322237400ST001
Formula
CrMoTaTiVW
Purity
99%
Dimension
Ø 12.7 mm x 114.3 mm

Panoramica dei bersagli di sputtering in lega di cromo, molibdeno, tantalio, titanio, vanadio e tungsteno

I bersagli di sputtering
in lega di cromo, molibdeno, tantalio
,
titanio, vanadio e tungsteno
sono composti da leghe di cromo, molibdeno, tantalio, titanio, tungsteno e vanadio e presentano un’eccellente resistenza alle alte temperature, alla corrosione e un’elevata resistenza meccanica. Sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili, nella produzione di rivestimenti e nella ricerca e sviluppo di leghe ad alte prestazioni, e sono particolarmente adatti per i settori tecnologici di fascia alta che operano in ambienti estremi.

Offriamo target di sputtering CrMoTaTiVW per soddisfare le diverse esigenze di deposizione di film sottili e rivestimenti, garantendo alta qualità e servizi personalizzati. Non esitate a contattarci
per qualsiasi domanda o richiesta.

Caratteristiche principali del prodotto

Eccellente resistenza alle alte temperature e alla corrosione
Elevata resistenza meccanica e resistenza all’usura
Eccellente efficienza di sputtering e qualità del film
Elevata stabilità e garanzia di prestazioni a lungo termine
Specifiche personalizzabili disponibili
Adattabile a vari ambienti di applicazione

Applicazioni della lega di cromo molibdeno tantalio titanio vanadio tungsteno

Deposizione di film sottili:
questo target è ampiamente utilizzato nell’industria dei semiconduttori, optoelettronica e delle celle solari per la deposizione di film sottili, fornendo strati di film sottili uniformi e di alta qualità per apparecchiature di precisione.

Tecnologia di rivestimento:
questo target può essere utilizzato per preparare rivestimenti duri, che presentano un’eccellente resistenza all’usura e alla corrosione. È ampiamente utilizzato nell’industria automobilistica, aerospaziale e dei componenti meccanici, aumentando la durata e la resistenza delle apparecchiature.

Produzione di leghe per alte temperature:
questo target svolge un ruolo cruciale nella produzione di leghe per alte temperature, in particolare nelle applicazioni aerospaziali e ad alta energia, garantendo la stabilità e la resistenza dei materiali a temperature estreme.

Rivestimenti ottici e film sottili funzionali:
adatto per la deposizione di film sottili funzionali come film ad alta riflessione e antiriflesso per dispositivi ottici, ampiamente utilizzati in apparecchiature laser, lenti ottiche e altri campi, migliorando le prestazioni e la stabilità dei dispositivi.

Domande frequenti

D1: Qual è l’efficienza di sputtering dei target di sputtering in lega di cromo-molibdeno-tantalio-titanio-vanadio-tungsteno?
A1: I target hanno un’eccellente efficienza di sputtering, consentendo la deposizione efficiente di film sottili uniformi in condizioni appropriate, rendendoli adatti alla produzione su larga scala.

D2: Quali precauzioni devono essere prese quando si utilizzano i target di sputtering CrMoTaTiVW?
A2: Durante l’uso, è necessario assicurarsi che la superficie del target sia priva di contaminazioni e che la temperatura e l’atmosfera dell’ambiente di sputtering siano stabili per evitare di compromettere la qualità del film e la durata del target.

D3: Come viene eseguito il collegamento tra la piastra posteriore e il bersaglio?
A3: Il collegamento tra la piastra posteriore e il bersaglio avviene tipicamente mediante tecniche di saldatura o incollaggio per garantire una solida adesione del bersaglio alla piastra posteriore, fornendo prestazioni di sputtering stabili. Siamo in grado di fornire diversi tipi di soluzioni di collegamento in base alle esigenze del cliente.

D4: Qual è il rendimento dei bersagli di sputtering CrMoTaTiVW in ambienti estremi?
A4: I target possiedono un’eccellente resistenza alle alte temperature e alla corrosione, consentendo un funzionamento stabile in ambienti ad alta temperatura e carico elevato, rendendoli particolarmente adatti per l’aerospaziale, l’energia e altri campi.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)

Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella produzione di target di sputtering CrMoTaTiVW di alta qualità, disponiamo di attrezzature di produzione avanzate e di un rigoroso sistema di gestione della qualità. Scegliendo noi avrete a disposizione prodotti stabili e affidabili, consegne rapide e un supporto tecnico
completo per aiutare i vostri progetti a procedere senza intoppi.

Formula molecolare: CrMoTaTiVW
Aspetto: Materiale target grigio-argento
Struttura cristallina: Cubico centrato sul corpo (BCC)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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