I target
di
sp
uttering
in cobalto-cromo-ferro-nichel
sono target compositi multimetallici che consentono la deposizione sinergica dei componenti, adatti alla preparazione e alla ricerca di film sottili funzionali e strutturali.
Offriamo soluzioni di target in varie dimensioni, rapporti tra i componenti e metodi di incollaggio, supportando la comunicazione a livello di progetto. Contattateci
per informazioni tecniche e prezzi.
Composizione uniforme e microstruttura stabile
Buona stabilità del processo di sputtering
Elevata ripetibilità del film Rapporti dei componenti
personalizzabili
disponibili
Disponibili diverse opzioni di dimensioni
Fornitura stabile a lungo termine
Deposizione di film sottili funzionali: questo target è adatto alla preparazione di film sottili multifunzionali, facilitando il raggiungimento di strutture di film sottili con composizione regolabile e prestazioni sinergiche.
Ricerca su film sottili magnetici e strutturali: comunemente utilizzato nella ricerca su film sottili magnetici o strutturali, supporta la valutazione delle prestazioni con diversi rapporti elementari.
Rivestimenti resistenti all’abrasione e alla corrosione: nell’ingegneria delle superfici, può essere utilizzato per preparare sistemi di film sottili compositi con proprietà di resistenza all’abrasione e alla corrosione.
D1: Questo materiale target è più adatto per la polverizzazione DC o RF?
A1: La scelta dipende dalle condizioni specifiche dell’attrezzatura. È compatibile con la maggior parte dei sistemi comuni. Si consiglia di determinare la scelta in base alle dimensioni del materiale target e ai requisiti del film sottile.
D2: Supportate dimensioni personalizzate per film non standard?
A2: Sì, possiamo personalizzare il materiale target in base ai requisiti della cavità dell’attrezzatura e dei dispositivi di fissaggio.
D3: Il materiale target richiede un trattamento speciale prima dell’uso?
A3: In genere consigliamo la pulizia della superficie e il pre-sputtering per garantire una qualità stabile del film sottile.
Q4: Potete fornire forniture a lungo termine per i progetti?
A4: Sì, supportiamo accordi di fornitura stabili e basati su lotti in base ai cicli dei progetti.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Ci concentriamo sulla ricerca e sviluppo e sulla fornitura stabile di target di sputtering multimetallo, con un processo di controllo qualità completo e capacità di personalizzazione mature. Siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni target affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alla trasformazione delle applicazioni, aiutando i progetti di film sottile ad avanzare in modo efficiente.
Formula molecolare: CoCrFeNi
Aspetto: Grigio-argento metallico
Densità: 8,0 g/cm³
Punto di fusione: 1.350 ℃
Struttura cristallina: Cubica a facce centrate
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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