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Cobalto Cromo Ferro Nichel

Chemical Name:
Cobalto Cromo Ferro Nichel
Formula:
CoCrFeNi
Product No.:
2724262800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2724262800ST001 CoCrFeNi 1:1:1:1at% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
2724262800ST002 CoCrFeNi 1:1:1:1at% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
2724262800ST001
Formula
CoCrFeNi
Purity
1:1:1:1at%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
2724262800ST002
Formula
CoCrFeNi
Purity
1:1:1:1at%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Panoramica dei target di sputtering in cobalto-cromo-ferro-nichel

I target

di
sp
uttering
in cobalto-cromo-ferro-nichel
sono target compositi multimetallici che consentono la deposizione sinergica dei componenti, adatti alla preparazione e alla ricerca di film sottili funzionali e strutturali.

Offriamo soluzioni di target in varie dimensioni, rapporti tra i componenti e metodi di incollaggio, supportando la comunicazione a livello di progetto. Contattateci
per informazioni tecniche e prezzi.

Caratteristiche principali del prodotto

Composizione uniforme e microstruttura stabile
Buona stabilità del processo di sputtering
Elevata ripetibilità del film Rapporti dei componenti
personalizzabili
disponibili
Disponibili diverse opzioni di dimensioni
Fornitura stabile a lungo termine

Applicazioni dei target di sputtering in cobalto, cromo, ferro e nichel

Deposizione di film sottili funzionali: questo target è adatto alla preparazione di film sottili multifunzionali, facilitando il raggiungimento di strutture di film sottili con composizione regolabile e prestazioni sinergiche.
Ricerca su film sottili magnetici e strutturali: comunemente utilizzato nella ricerca su film sottili magnetici o strutturali, supporta la valutazione delle prestazioni con diversi rapporti elementari.
Rivestimenti resistenti all’abrasione e alla corrosione: nell’ingegneria delle superfici, può essere utilizzato per preparare sistemi di film sottili compositi con proprietà di resistenza all’abrasione e alla corrosione.

Domande frequenti

D1: Questo materiale target è più adatto per la polverizzazione DC o RF?
A1: La scelta dipende dalle condizioni specifiche dell’attrezzatura. È compatibile con la maggior parte dei sistemi comuni. Si consiglia di determinare la scelta in base alle dimensioni del materiale target e ai requisiti del film sottile.

D2: Supportate dimensioni personalizzate per film non standard?
A2: Sì, possiamo personalizzare il materiale target in base ai requisiti della cavità dell’attrezzatura e dei dispositivi di fissaggio.

D3: Il materiale target richiede un trattamento speciale prima dell’uso?
A3: In genere consigliamo la pulizia della superficie e il pre-sputtering per garantire una qualità stabile del film sottile.

Q4: Potete fornire forniture a lungo termine per i progetti?
A4: Sì, supportiamo accordi di fornitura stabili e basati su lotti in base ai cicli dei progetti.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla ricerca e sviluppo e sulla fornitura stabile di target di sputtering multimetallo, con un processo di controllo qualità completo e capacità di personalizzazione mature. Siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni target affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alla trasformazione delle applicazioni, aiutando i progetti di film sottile ad avanzare in modo efficiente.

Formula molecolare: CoCrFeNi
Aspetto: Grigio-argento metallico
Densità: 8,0 g/cm³
Punto di fusione: 1.350 ℃
Struttura cristallina: Cubica a facce centrate

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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