I target di sputtering
in carburo di molibdeno
sono materiali funzionali che possiedono elevata durezza, eccellente resistenza all’usura e stabilità chimica superiore. Sono comunemente utilizzati per preparare rivestimenti ad alte prestazioni, film sottili resistenti all’usura, strati conduttivi e film strutturali elettronici. La loro stabilità termica e l’uniformità del film li rendono ideali per la tecnologia avanzata dei film sottili e le applicazioni di rivestimento industriale.
Forniamo target di sputtering in carburo di molibdeno in varie purezze, strutture e dimensioni personalizzate e supportiamo servizi di incollaggio del backplane, lavorazione di precisione e consegna in lotti. Contattateci
immediatamente per assistenza tecnica.
Eccellente stabilità alle alte temperature
Elevata resistenza all’usura e durezza
Eccellenti prestazioni di adesione del film sottile
Struttura del film uniforme
Basso contenuto di impurità e purezza controllabile
Dimensioni personalizzate e tipi di backplane disponibili
Stabilità dei lotti, adatta per il rivestimento di produzione di massa
Velocità di sputtering controllabile e strato di film uniforme
Utilizzati per la preparazione di rivestimenti a film sottile resistenti all’usura e alla corrosione.
Utilizzati per la deposizione di film funzionali nei dispositivi elettronici.
Ottenimento di un rivestimento migliorato nell’industria degli utensili e della produzione di stampi.
Utilizzati per film elettrocatalitici ad alte prestazioni e sviluppo di film sottili orientati alla ricerca.
D1: Quali tipi di target in carburo di molibdeno potete lavorare?
R1: Possiamo lavorare target rotondi, rettangolari e ad arco e fornire una gamma di servizi di lavorazione avanzati, tra cui rettifica di precisione, smussatura e incollaggio del supporto.
D2: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei target?
A2: I target devono essere collocati in imballaggi sigillati e resistenti all’umidità, evitando collisioni con oggetti duri, e conservati in un ambiente pulito per proteggere la qualità della superficie del target.
D3: Quali sono i principali vantaggi di questo target?
A3: Possiede un’eccellente resistenza alle alte temperature, prestazioni di sputtering stabili e una forte resistenza all’usura, che lo rendono ideale per i processi di rivestimento con elevati requisiti di qualità del film sottile.
D4: Quali servizi aggiuntivi potete fornire?
A4: Possiamo fornire consulenza tecnica, consigli sui parametri di sputtering, servizi di riparazione dei target e supporto flessibile per la consegna di ordini all’ingrosso.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti.
Possediamo una tecnologia di produzione di target per sputtering matura, che garantisce materiali stabili e uniformi.
Siamo in grado di personalizzare le formulazioni e le strutture in base ai processi dei clienti, rendendo i nostri prodotti compatibili con vari sistemi di sputtering.
Ogni target viene sottoposto a test rigorosi per garantire elevata purezza e uniformità.
Forniamo capacità di fornitura stabili per soddisfare le esigenze di istituti di ricerca, ordini di piccoli lotti e produzione industriale di massa.
Il nostro team di professionisti è in grado di fornirvi un supporto completo dalla selezione dei materiali all’applicazione, migliorando l’efficienza della preparazione dei film sottili.
Formula chimica: Mo₂C
Peso molecolare: 203,88 g/mol
Aspetto: Disco metallico grigio-nero o bersaglio rettangolare
Densità: Circa 9,0-9,1 g/cm³
Punto di fusione: ≈ 2690 °C
Struttura cristallina: Esagonale a struttura stretta (HCP) o parzialmente policristallina cubica.
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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