| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 230500ST001 | VB2 | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35mm | Inquire |
| 230500ST002 | VB2 | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175mm | Inquire |
| 230500ST003 | VB2 | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35mm | Inquire |
| 230500ST004 | VB2 | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175mm | Inquire |
| 230500ST005 | VB2 | 99.9% | Ø 25.4mm x 3.175mm | Inquire |
| 230500ST006 | VB2 | 99.9% | Ø 101.6mm x 3.175mm | Inquire |
I target di sputtering
in boruro di vanadio
sono target funzionali con boruro di vanadio come componente principale, che possiedono un alto punto di fusione e una buona stabilità strutturale. Questi target sono utilizzati principalmente nei processi di deposizione fisica da vapore e svolgono un ruolo cruciale nella preparazione di film sottili resistenti all’usura, alle alte temperature e funzionali.
Offriamo target di sputtering VB2 in varie dimensioni, densità e metodi di lavorazione. Contattateci
per specifiche tecniche e soluzioni di consegna.
Materiale per sputtering ad alto punto di fusione
Struttura densa del bersaglio
Buona uniformità compositiva
Stabilità di sputtering ad alta temperatura
Buona adesione del film
Lavorazione personalizzata supportata
Film sottili funzionali resistenti all’usura:
migliorano significativamente la durezza e la durata del film durante la deposizione di film resistenti all’usura, adatti alla protezione delle superfici in ambienti ad alto attrito.
Rivestimenti protettivi ad alta temperatura:
i film sottili preparati utilizzando questi target mostrano una buona stabilità termica in condizioni di alta temperatura, adatti per la protezione delle superfici dei componenti ad alta temperatura.
Ricerca sui film sottili ceramici funzionali:
comunemente utilizzati nella preparazione di film sottili ceramici funzionali e film compositi correlati per soddisfare le esigenze di controllo delle prestazioni dei materiali e ottimizzazione strutturale.
Ricerca e sviluppo dei materiali:
fornisce sorgenti di sputtering stabili e riproducibili per lo sviluppo di nuovi materiali e la ricerca sui meccanismi dei film sottili.
D1: Quali processi di sputtering sono adatti per i target di sputtering al boruro di vanadio?
R1: Questo target può essere utilizzato nei processi convenzionali di deposizione fisica da vapore ed è adatto a varie apparecchiature di sputtering sperimentali e industriali.
D2: Il target VB2 è stabile durante lo sputtering ad alta temperatura?
R2: Ha un’elevata stabilità termica e mantiene buone prestazioni di sputtering con parametri di processo adeguati.
D3: È possibile personalizzare le dimensioni e la forma del target?
R3: Sì, è possibile personalizzare target con diametri, spessori e forme strutturali diversi in base ai requisiti delle apparecchiature.
D4: Quali sono le applicazioni adatte per i film sottili preparati utilizzando target di sputtering al boruro di vanadio?
R4: Utilizzati principalmente in campi di ricerca relativi a rivestimenti resistenti all’usura, film protettivi ad alta temperatura e materiali funzionali.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati nella preparazione e nella fornitura di target di sputtering funzionali, conosciamo bene i punti chiave di controllo dei target di sputtering VB2 nelle applicazioni pratiche di sputtering e siamo in grado di fornire qualità stabile, personalizzazione flessibile e supporto tecnico professionale per aiutare i clienti a migliorare l’efficienza e la coerenza della preparazione dei film sottili.
Formula molecolare: VB₂
Peso molecolare: 69,72 g/mol
Aspetto: Nero o grigio scuro con lucentezza metallica
Densità: 4,1 g/cm³
Punto di fusione: 3000°C
Struttura cristallina: Esagonale
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
