Boro I bersagli per sputtering sono realizzati in boro di elevata purezza, di solito di colore da grigio scuro a nero con una lucentezza metallica e una struttura cristallina atomica. Grazie all’elevata durezza, all’alto punto di fusione e all’eccellente stabilità chimica, i bersagli di boro consentono la deposizione di film sottili densi, uniformi e ben aderenti.
Sono ampiamente utilizzati nelle applicazioni dei semiconduttori, dell’optoelettronica, dei rivestimenti ottici e dei rivestimenti duri, compresa la preparazione di film sottili di boro, di film sottili di boruro (come B₄C, TiB₂, MoB₂) e di film semiconduttori drogati con boro. I target di boro possono essere prodotti in forme circolari, rettangolari o altre forme personalizzate per soddisfare i diversi requisiti di processo.
Elevata purezza: Standard ≥99,5%, purezza ultraelevata fino a ≥99,9%.
Eccellenti proprietà fisiche: Elevato punto di fusione (~2076 °C), elevata durezza (Mohs ~9,3).
Forte stabilità chimica: Resistente agli acidi e agli alcali a temperatura ambiente.
Qualità superiore del film: Produce film densi e uniformi con forte adesione
Specifiche personalizzabili: Dimensioni, forma e purezza disponibili su richiesta.
Industria dei semiconduttori: i target di sputtering al boro sono utilizzati per i film di silicio drogati con boro, per la fabbricazione di semiconduttori di tipo P
rivestimenti ottici: film resistenti all’usura, alle alte temperature e antiriflesso
Rivestimenti duri: Produzione di rivestimenti come il carburo di boro (B₄C) e il diboruro di titanio (TiB₂)
Industria nucleare: i target di sputtering al boro sono utilizzati per film sottili con elevata capacità di assorbimento di neutroni.
Durante la manipolazione, utilizzare guanti puliti o protezioni per le dita per evitare la contaminazione.
Conservare in una confezione sigillata, a prova di umidità, in un ambiente fresco, asciutto e pulito. Tenere lontano da agenti ossidanti forti, alogeni e fonti di shock meccanico.
Aspetto: Solido da grigio scuro a nero
Struttura cristallina: Cristallo atomico, durezza Mohs 9,3
Densità: ~2,34 g/cm³ (può variare a seconda del metodo di sinterizzazione)
Punto di fusione: 2076 °C
Stabilità chimica: Non reagisce con ossigeno o acidi diluiti a temperatura ambiente; reagisce vigorosamente con alogeni e agenti ossidanti forti.
Imballaggio interno: Sigillato sotto vuoto in sacchetti di polietilene antistatici
Imballaggio esterno: Cartone antiurto o cassa di legno con rivestimento in gommapiuma
Fornitura standard: 1 pezzo/scatola o secondo i requisiti del cliente
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