| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 140801ST001 | SiO2 | 99.99% | Ø 50.8mm x 3.175mm | Inquire |
| 140801ST002 | SiO2 | 99.995% | Ø 50.8mm x 3.175mm | Inquire |
| 140801ST003 | SiO2 | 99.99% | Ø 76.2mm x 3.175mm | Inquire |
| 140801ST004 | SiO2 | 99.99% | Ø 76.2mm x 6.35mm | Inquire |
| 140801ST005 | SiO2 | 99.995% | Ø 76.2mm x 6.35mm | Inquire |
| 140801ST006 | SiO2 | 99.99% | Ø 101.6mm x 3.175mm | Inquire |
| 140801ST007 | SiO2 | 99.995% | Ø 101.6mm x 3.175mm | Inquire |
| 140801ST008 | SiO2 | 99.995% | Ø 110mm x 14mm | Inquire |
| 140801ST009 | SiO2 | 99.99% | Ø 304.8mm x 6.35mm | Inquire |
| 140801ST010 | SiO2 | 99.99% | 280mm x 200mm x 6mm | Inquire |
I target di sputtering
al biossido di silicio
sono target ceramici ad alta purezza adatti alla preparazione di film sottili funzionali e rivestimenti protettivi. Sono ampiamente utilizzati nella deposizione mediante sputtering di film sottili ottici
, dispositivi elettronici e rivestimenti protettivi.
Siamo in grado di fornire target di sputtering al biossido di silicio compatibili con il processo e supportare
l’integrazione tecnica
della struttura del target e dei parametri di deposizione. Contattateci
subito!
Composizione del film uniforme e stabile
Elevata stabilità termica
Eccellente uniformità di deposizione
Elevata compatibilità di processo
Adatto a vari processi di sputtering
Preparazione di film sottili ottici:
i target SiO₂ possono essere utilizzati per preparare film trasparenti, film antiriflesso e altri film sottili funzionali ottici.
Deposizione di dispositivi elettronici:
adatto per la deposizione di film sottili e strati funzionali di dispositivi a semiconduttori, migliorando l’affidabilità dei dispositivi.
Rivestimenti protettivi:
utilizzati per preparare film sottili resistenti alla corrosione e protettivi, migliorando le proprietà superficiali dei materiali.
Ricerca e convalida dei processi:
supporta la ricerca su nuovi materiali per film sottili e l’ottimizzazione dei parametri di deposizione.
D1: Per quali film sottili vengono utilizzati principalmente i target di sputtering al biossido di silicio?
R1: Utilizzati principalmente per film sottili ottici, film sottili per dispositivi elettronici e rivestimenti protettivi.
D2: Come si comporta il target SiO₂ nella deposizione ad alta temperatura?
A2: L’elevata stabilità termica garantisce una deposizione uniforme del film anche a temperature elevate.
Q3: Per quali processi di sputtering è adatto questo target?
A3: Adatto per lo sputtering magnetronico e altri processi convenzionali di deposizione di film sottili.
Q4: La struttura del target influisce sull’uniformità del film?
A4: Una struttura del target ben progettata può migliorare lo spessore del film e l’uniformità della composizione.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Abbiamo una consolidata esperienza tecnica e di fornitura nel campo dei target di sputtering ceramici e forniamo target di sputtering in biossido di silicio stabili e tracciabili per aiutare i clienti a ottenere uniformità e affidabilità nella deposizione di film sottili durante le fasi di ricerca e sviluppo e di applicazione.
Formula molecolare: SiO2
Peso molecolare: 60,08 g/mol
Aspetto: Blocco bianco e denso
Densità: 2,2-2,65 g/cm³ (target sinterizzato)
Punto di fusione: 1710 °C
Punto di ebollizione: 2230 °C
Struttura cristallina: Tetragonale/esagonale (quarzo); amorfa (target sinterizzato)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
