Il bersaglio ad anello
in biossido di silicio
è un bersaglio ceramico ad alta purezza progettato specificamente per i sistemi di sputtering magnetronico a rotazione, che garantisce uniformità e stabilità di processo nella deposizione di film sottili. È ampiamente utilizzato nella preparazione di film sottili ottici
, dispositivi elettronici e rivestimenti protettivi.
Offriamo bersagli ad anello in SiO2 compatibili con vari sistemi di sputtering a rotazione e supportiamo l’integrazione tecnica per quanto riguarda le dimensioni del bersaglio, la struttura e i parametri di deposizione. Contattateci
subito!
Design ad anello, adatto ai sistemi di sputtering a rotazione
Elevata stabilità termica
Elevata uniformità di deposizione del film sottile
Elevata compatibilità di processo
Lotti stabili, buona consistenza
Deposizione di film sottili ottici:
i bersagli ad anello in SiO₂ possono essere utilizzati per preparare film trasparenti, film antiriflesso e altri film sottili otticamente funzionali.
Strati funzionali per dispositivi elettronici:
adatti per la deposizione di strati funzionali in semiconduttori e dispositivi elettronici, migliorando la consistenza delle prestazioni dei dispositivi.
Rivestimenti protettivi:
utilizzati per preparare film sottili resistenti alla corrosione e protettivi, migliorando le proprietà della superficie dei materiali.
Ricerca e ottimizzazione dei processi:
supporta la ricerca su nuovi processi di film sottili e l’ottimizzazione e la verifica dei parametri di sputtering a rotazione.
D1: Quali applicazioni di sputtering sono adatte per i target ad anello in SiO₂?
A1: Utilizzati principalmente per la deposizione mediante sputtering a rotazione di film sottili ottici, strati funzionali per dispositivi elettronici e rivestimenti protettivi.
D2: Quali sono i vantaggi dei target ad anello rispetto ai target planari?
A2: Il design dei target ad anello è adatto ai sistemi di sputtering a rotazione, migliorando l’uniformità dello spessore del film e l’utilizzo del materiale.
D3: I target ad anello in SiO₂ sono stabili durante la deposizione ad alta temperatura?
A3: Il materiale ceramico ad alta purezza garantisce che il bersaglio mantenga la stabilità strutturale e di deposizione in condizioni di alta temperatura.
Q4: Il design del bersaglio ad anello influisce sulle prestazioni del film?
A4: Una forma ad anello ben progettata contribuisce a una deposizione uniforme, migliorando lo spessore del film e la consistenza della composizione.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Abbiamo una comprovata esperienza tecnica e di fornitura nel campo dei target rotanti in ceramica e siamo in grado di fornire target ad anello in biossido di silicio stabili e tracciabili per aiutare i clienti a ottenere un’elevata uniformità e affidabilità nella deposizione di film sottili nei sistemi di sputtering rotanti.
Formula molecolare: SiO2
Peso molecolare: 60,08 g/mol
Aspetto: Obiettivo bianco a forma di anello
Densità: 2,2-2,65 g/cm³ (bersaglio sinterizzato)
Punto di fusione: 1710 °C
Punto di ebollizione: 2230 °C
Struttura cristallina: Tetragonale/esagonale (quarzo); amorfa (bersaglio sinterizzato)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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