Biossido di silicio

Panoramica sui wafer di biossido di silicio

I wafer
di biossido di silicio
sono fogli di ossido di silicio ad alta purezza con eccellente stabilità termica, inerzia chimica e planarità superficiale. Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, dispositivi microelettronici e deposizione di film sottili ottici
.

Offriamo wafer di SiO2 in varie specifiche e supportiamo l’integrazione tecnica per dimensioni, spessore e corrispondenza dei processi. Contattateci
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Caratteristiche principali del prodotto

Elevata stabilità termica e inerzia chimica
Superficie liscia con elevata planarità
Dimensioni e spessore personalizzabili
Adatto per processi di semiconduttori e film sottili ottici
Elevata compatibilità di processo

Applicazioni del wafer di biossido di silicio

Produzione di dispositivi a semiconduttori:
i wafer di SiO₂ possono essere utilizzati come substrati o materiali isolanti per dispositivi elettronici, migliorando le prestazioni e l’affidabilità dei dispositivi.
Deposizione di film sottili microelettronici:
utilizzati per la preparazione di film sottili microelettronici, garantiscono l’adesione del film e l’uniformità dello spessore.
Applicazioni di film sottili ottici:
adatti alla preparazione di film funzionali ottici, film antiriflesso e film conduttivi trasparenti.
Ricerca e convalida dei processi:
supportano la ricerca su nuovi materiali e processi di film sottili, convalidando i parametri di deposizione e gli effetti dei processi.

Domande frequenti

D1: In quali processi possono essere utilizzati i wafer di SiO₂?
R1: Utilizzati principalmente nella produzione di dispositivi a semiconduttori, nella deposizione di film sottili microelettronici e nella fabbricazione di film sottili ottici.

D2: I wafer di ossido di silicio sono stabili nei processi ad alta temperatura?
A2: I wafer di SiO₂ hanno un’elevata stabilità termica e possono mantenere la loro struttura e le loro prestazioni nei processi ad alta temperatura.

D3: La planarità della superficie del wafer influisce sull’applicazione?
A3: L’elevata planarità garantisce una deposizione uniforme del film sottile e prestazioni costanti del dispositivo.

D4: I wafer di SiO₂ possono essere utilizzati direttamente per la deposizione di film sottili?
A4: Sì, sono adatti per substrati utilizzati nella deposizione di film sottili funzionali ottici e semiconduttori.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo una vasta esperienza nel campo della fornitura di wafer di ossido di silicio e siamo in grado di fornire wafer di SiO₂ altamente stabili e tracciabili per supportare i clienti nel raggiungimento di coerenza e affidabilità nella deposizione di film sottili e nella produzione di dispositivi durante le fasi di ricerca e sviluppo e applicazione.