Bario metallico

Obiettivi di sputtering bario-metallo Panoramica

I bersagli sputtering in bario sono bersagli metallici ad alte prestazioni progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Con una purezza fino al 99,9%, offrono densità e uniformità eccellenti, garantendo una deposizione uniforme del film, una forte adesione e livelli di impurità estremamente bassi.

Offriamo target di sputtering al bario in una varietà di forme e dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, e possiamo personalizzarli per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Forniamo anche un’assistenza assistenza post-venditanon esitate a contattarci per qualsiasi domanda.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,9%
L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
Dimensioni e forme personalizzabili per soddisfare le diverse esigenze
Incollaggio mirato servizi di incollaggio disponibili
Adatto per semiconduttori, optoelettronica e materiali funzionali a film sottile

Applicazioni del target di sputtering bario-metallo

Semiconduttori: Utilizzati nei dispositivi optoelettronici e nella deposizione di strati funzionali grazie alla loro eccellente conduttività e compatibilità di processo.
Optoelettronica: Utilizzato nella fabbricazione di film sottili funzionali in dispositivi ad emissione di luce e celle solari.
Film sottili funzionali: Utilizzati nella preparazione di rivestimenti ottici, sensori e catalizzatori.

Rapporti

Ogni lotto di target di sputtering al bario viene fornito con un certificato di analisi (COA) completo Certificato di analisi (COA), Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i relativi rapporti di prova. Inoltre, supportiamo test di terze parti per garantire una qualità del prodotto stabile e affidabile.