Alluminato di rame (ossido di rame e alluminio)

Panoramica dei bersagli di sputtering in ossido di rame e alluminio

I bersagli di sputtering
in ossido di rame e alluminio
sono bersagli in ossido metallico ad alta purezza utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili optoelettronici, film conduttivi e rivestimenti funzionali per ottenere strati di film uniformi e prestazioni stabili.

Offriamo bersagli di sputtering in ossido di rame e alluminio con diversi rapporti di composizione, dimensioni e livelli di purezza. Sono disponibili lavorazioni personalizzate e consulenza tecnica. Contattateci
per trovare la soluzione più adatta alle vostre esigenze.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza
Elevata uniformità compositiva
Deposizione stabile del film
Basso contenuto di impurità, chimicamente stabile
Conduttività e proprietà ottiche affidabili
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering
Supporta forme circolari, quadrate e irregolari personalizzate e incollaggio

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di rame e alluminio

Film sottili
per semiconduttori
e dispositivi elettronici: utilizzati per la deposizione di film conduttivi e funzionali nei dispositivi elettronici, migliorano l’uniformità del film e le prestazioni del dispositivo. Dispositivi
optoelettronici
e di visualizzazione: utilizzati in OLED, LCD e display touch per garantire film conduttivi uniformi con elevata trasparenza.
Rivestimenti funzionali e film industriali: adatti per la deposizione di film conduttivi, resistenti alla corrosione o ottici funzionali, migliorando le proprietà aggiuntive dei materiali industriali.

Domande frequenti

D1: La sputtering con ossido di rame e alluminio (CA) è adatta per la sputtering DC o RF?
A1: Il CA è un materiale isolante o semiconduttore e lo sputtering RF è generalmente consigliato per ottenere film stabili.

D2: Il rapporto di composizione del bersaglio di sputtering influisce sulle prestazioni di deposizione?
A2: Sì, diversi rapporti rame-alluminio influenzeranno la conduttività, le proprietà ottiche e la velocità di deposizione del film. Il rapporto appropriato deve essere selezionato in base ai requisiti di processo.

D3: È possibile personalizzare le dimensioni e la forma del bersaglio di sputtering in base alle diverse esigenze delle apparecchiature e dei processi?
R3: Sì, offriamo bersagli di sputtering personalizzati di forma rotonda, quadrata e irregolare per soddisfare le diverse apparecchiature di sputtering e i requisiti di processo.

D4: Quali precauzioni è necessario prendere durante lo stoccaggio e la manipolazione del bersaglio di sputtering?
A4: Si raccomanda di conservare il bersaglio in un ambiente asciutto, evitare forti urti e impedire il contatto con acqua o sostanze acide/alcaline per garantire l’integrità del bersaglio.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla ricerca, lo sviluppo e la fornitura di target di sputtering in materiali funzionali ad alta purezza, controllando rigorosamente l’uniformità della composizione, la stabilità dei lotti e le prestazioni di deposizione del film, fornendo target di sputtering in rame e ossido di alluminio affidabili e tracciabili per la ricerca scientifica, l’industria e i dispositivi optoelettronici.