I target di sputtering al lutezio metallico per la deposizione di film sottili sono materiali ad alte prestazioni progettati per processi di rivestimento di film sottili ad alta precisione. Con una purezza fino al 99,9%, questi target di lutezio sputtering di elevata purezza offrono un’eccellente densità e una microstruttura uniforme, garantendo la stabilità, la compattezza e l’eccezionale adesione del film depositato. I nostri target di lutezio metallico sotto vuoto riducono efficacemente il contenuto di impurità, soddisfano i severi requisiti dei processi di rivestimento di semiconduttori e ottici e sono ideali per l’uso in elettronica, fotonica e ricerca sui materiali avanzati.
Forniamo lutezio di elevata purezza personalizzato in una varietà di dimensioni e forme, tra cui rotonde e rettangolari, che possono essere prodotte in base alle esigenze del cliente. Dotati di un supporto tecnico completo e di un servizio post-vendita, aiutiamo i clienti a risolvere vari problemi nelle applicazioni di rivestimento e deposizione di film sottili utilizzando bersagli sputtering in lutezio.
Alta densità, per garantire una deposizione uniforme e densa del film
Dimensioni e forma personalizzabili per soddisfare le esigenze delle diverse apparecchiature
Servizio di rilegatura del target disponibile
Supporto tecnico completo disponibile
Semiconduttori: utilizzati per la deposizione di film sottili di dispositivi ad alte prestazioni, con eccellenti proprietà elettriche e ottiche
Materiali laser: materiali chiave per cristalli laser e film funzionali a base di lutezio
Dispositivi optoelettronici: deposizione di film funzionali in LED, fibre ottiche e sensori ottici
Rivestimenti di alta gamma: utilizzati per la preparazione di film funzionali resistenti all’usura, alla corrosione e speciali
Forniamo certificati di analisi (COA) dettagliati, schede di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti di prova per ogni lotto di target di sputtering al lutezio e supportiamo test di terze parti per garantire una qualità del prodotto trasparente e affidabile. Contattateci per ulteriori informazioni tecniche.
Formula chimica: Lu
Aspetto: Metallo da bianco argenteo a bianco grigiastro con lucentezza metallica
Densità: 9,84 g/cm³ (metallo delle terre rare ad alta densità)
Punto di fusione: 1663 °C
Punto di ebollizione: 3400 °C
Conducibilità termica: 16,4 W/m-K
Conducibilità elettrica: 1,79 × 10⁷ S/m
Capacità termica specifica: 0,154 J/g-K
Coefficiente di espansione termica: 9,9 × 10-⁶ /K
Struttura cristallina: Esagonale ad impacchettamento stretto (HCP)
Proprietà magnetiche: Paramagnetico
Resistenza alla corrosione: Moderata; stabile in aria secca, ma facilmente ossidabile in ambienti umidi
Reattività chimica: Sensibile agli acidi, in particolare all’acido solforico e all’acido nitrico diluiti; reagisce lentamente con l’acqua per produrre idrogeno.
Parola segnale:
Pericolo
Indicazioni di pericolo:
H228: Solido infiammabile
H260: A contatto con l’acqua rilascia gas infiammabili che possono infiammarsi spontaneamente
Imballaggio interno: Sacchetto sigillato sottovuoto per proteggere dalla contaminazione e dall’umidità.
Imballaggio esterno: Cartone o scatola di legno, a seconda delle dimensioni e del peso.
Obiettivi fragili: Viene utilizzato uno speciale imballaggio protettivo per garantire un trasporto sicuro.
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